特許
J-GLOBAL ID:201303066221851942
水熱分解による水素製造法及び水素製造装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
牛木 護
, 小合 宗一
, 高橋 知之
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2010071485
公開番号(公開出願番号):WO2011-068122
出願日: 2010年12月01日
公開日(公表日): 2011年06月09日
要約:
ビームダウン集光システムによって得られる太陽エネルギーを高効率で利用することのできる、水熱分解による水素製造法及び水素製造装置を提供する。金属酸化物の粒子からなる流動層2を反応器1内で循環させながら、低酸素分圧ガスである窒素雰囲気下で前記流動層2の一部を太陽光Sにより加熱して金属酸化物から酸素を放出させる酸素発生反応である熱還元反応と、酸素を放出した後の金属酸化物に水蒸気を接触させ水素を発生させる水素発生反応である水熱分解反応の2つの反応を同時に進行させる。
請求項(抜粋):
金属酸化物の粒子からなる流動層を反応器内で循環させながら、低酸素分圧ガス雰囲気下で前記流動層の一部を太陽光により加熱して金属酸化物から酸素を放出させる酸素発生反応と、酸素を放出した後の金属酸化物に水蒸気を接触させ水素を発生させる水素発生反応の2つの反応を同時に進行させることを特徴とする水熱分解による水素製造法。
IPC (4件):
C01B 3/06
, C01G 49/00
, C01F 17/00
, C01G 53/00
FI (4件):
C01B3/06
, C01G49/00 A
, C01F17/00 A
, C01G53/00 A
Fターム (10件):
4G002AA06
, 4G002AE05
, 4G048AA03
, 4G048AB02
, 4G048AC08
, 4G048AD03
, 4G048AD06
, 4G048AE05
, 4G076AA02
, 4G076DA30
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