特許
J-GLOBAL ID:201303067247538220
無菌極低温液体を製造するための方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
小野 新次郎
, 小林 泰
, 富田 博行
, 星野 修
, 森下 梓
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-510108
公開番号(公開出願番号):特表2013-531212
出願日: 2011年04月20日
公開日(公表日): 2013年08月01日
要約:
極低温ガスを滅菌し、そして熱交換器を使用して無菌極低温流れを液化することによる、極低温ガスから無菌極低温流体を製造するための方法。無菌極低温流体の排出孔の寸法を規制して、そして前記流体の所定の圧力を設定することによって、無菌極低温流体の排出量を制御する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
無菌極低温流体を製造するための改良された方法であって、この方法は、極低温ガスを滅菌して無菌極低温流れを生成し、そしてその滅菌された極低温流れを熱交換器へ供給して無菌極低温流れを液化することによるものであり、このとき無菌極低温流体の排出孔の寸法を規制して、そして前記流体の所定の圧力を設定することによって、無菌極低温流体の排出量を制御することを改良点とする、前記方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (8件):
4C058AA24
, 4C058BB05
, 4D047AA01
, 4D047AA08
, 4D047BA00
, 4D047CA09
, 4D047DA17
, 4D047EA00
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開平2-083013
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極低温液体の注入方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-220646
出願人:株式会社東芝
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滅菌低温流体を製造する方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2010-523149
出願人:リンデ・エルエルシー
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