特許
J-GLOBAL ID：201303067872262003

パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス

発明者：
加藤 啓太

加藤 啓太 について

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白川 三千紘

白川 三千紘 について

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高橋 秀知

高橋 秀知 について

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齊藤 翔一

齊藤 翔一 について

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吉野 文博

吉野 文博 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (3件)： 高松 猛 ,  尾澤 俊之 ,  長谷川 博道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-091329
公開番号（公開出願番号）：特開2013-011855
出願日： 2012年04月12日
公開日（公表日）： 2013年01月17日
要約：
【課題】有機溶剤現像時のパターン部の意図しない溶解に起因する解像性及び矩形性の低下を防ぎ、ドライエッチング耐性に優れ、特にKrF露光に好適なパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】(ア)酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰返し単位を有する樹脂(A)、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、及び溶剤(C)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、及び(ウ)該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型パターンを形成する工程を有するパターン形成方法であって、樹脂(A)中の全繰返し単位に対して、下記一般式(I)で表される繰返し単位の含有量が20モル%未満で、かつ一般式(I)以外の非フェノール系芳香族基を有する繰返し単位を有する、パターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(ア)酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰り返し単位を有する樹脂(A)、 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、及び 溶剤(C) を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、 (イ)該膜を露光する工程、及び (ウ)該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程 を有するパターン形成方法であって、 樹脂(A)中の全繰り返し単位に対して、下記一般式(I)で表される繰り返し単位の含有量が20モル%未満であり、かつ樹脂(A)が、下記一般式(I)で表される繰り返し単位以外の非フェノール系芳香族基を有する繰り返し単位を有する、パターン形成方法。
IPC (5件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/18
FI (5件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/32 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/18
Fターム (93件)：
2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096GA03 ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF35P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AF52P ,  2H125AF53P ,  2H125AF55P ,  2H125AF70P ,  2H125AH08 ,  2H125AH12 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ12Y ,  2H125AJ13X ,  2H125AJ13Y ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ43Y ,  2H125AJ44Y ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ52Y ,  2H125AJ55X ,  2H125AJ56X ,  2H125AJ56Y ,  2H125AJ60X ,  2H125AJ60Y ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ63Y ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ65Y ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ70X ,  2H125AJ77X ,  2H125AJ80X ,  2H125AJ80Y ,  2H125AM66P ,  2H125AM86P ,  2H125AM99P ,  2H125AN36P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125AN57P ,  2H125AN62P ,  2H125AN65P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB08 ,  2H125CC01 ,  2H125CC15 ,  2H125FA05 ,  4J100AB02Q ,  4J100AB04Q ,  4J100AB07Q ,  4J100AB13Q ,  4J100AJ02R ,  4J100AL03P ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL11Q ,  4J100AM21Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA16Q ,  4J100BA40R ,  4J100BB18Q ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC43Q ,  4J100BC48Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA36 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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