プラズマ成膜装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-110380
公開番号（公開出願番号）：特開2013-237885
出願日： 2012年05月14日
公開日（公表日）： 2013年11月28日
要約：

【課題】プラズマ成膜装置において、基板の搬送工程を効率化し、基板の搬送工程のための機構を小型化する技術を提供する。【解決手段】プラズマ成膜装置300は、交互に成膜処理を実行する第1と第2の成膜処理系301,302を備える。第1と第2の成膜処理系301,302はそれぞれ、搬送機構310と、真空予備室320と、成膜室330とを備える。搬送機構310は、基板5を保持する基板保持部325が先端に連結されたシリンダ軸311を備える。プラズマ成膜装置300では、ゲートバルブ322を開いた状態で、シリンダ軸311を直線的に摺動させることにより、基板5が載置された基板保持部325を真空予備室320から成膜室330に搬入させる。シリンダ軸311には、基板保持部325が成膜室330に収容されたときに、成膜室330の入口を閉塞する弁体324が取り付けられている。【選択図】図10

請求項（抜粋）：

プラズマ成膜装置であって、真空状態に保持され、基板に対する成膜処理が実行される成膜室と、前記成膜室に隣接し、前記成膜室に対する前記基板の搬入および搬出を行う搬送機構が設置され、少なくとも、前記成膜室に対する前記基板の搬入および搬出が実行されるときには、真空状態に保持される真空予備室と、を備え、前記搬送機構は、前記基板を保持する保持部と、直線的な伸縮運動によって、前記保持部を、前記真空予備室と前記成膜室との間で移動させる支持腕部と、を備える、プラズマ成膜装置。

IPC (1件)：

C23C 16/44

FI (1件)：

C23C16/44 F

Fターム (11件)：

4K030AA01 , 4K030BA27 , 4K030CA02 , 4K030CA17 , 4K030FA03 , 4K030GA12 , 4K030KA01 , 4K030KA45 , 5H026AA02 , 5H026BB04 , 5H026EE02

引用特許：

出願人引用 (4件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-230785 出願人：シャープ株式会社
真空被覆装置および連結配置
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-513986 出願人：ユナキス・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト
真空処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-289263 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社

全件表示

審査官引用 (4件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-230785 出願人：シャープ株式会社
真空被覆装置および連結配置
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-513986 出願人：ユナキス・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト
真空処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-289263 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社

全件表示

前のページに戻る