枚葉式真空処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：飯阪泰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-350585
公開番号（公開出願番号）：特開平9-176856
出願日： 1995年12月22日
公開日（公表日）： 1997年07月08日
要約：

【要約】[課題] 真空処理される基板の品質を低下させることなく、種々の複合プロセスを可能にする枚葉式真空処理装置を提供すること。[解決手段] 開口101a、101bを介して垂直方向に駆動され、かつ基板22を支持可能な一対の基板支持部材96a、96bと、水平方向に駆動され、かつ基板支持部材96a、96bとの間で基板22の受け渡しが可能な一対の搬送部材97a、97bと、垂直方向に駆動され、かつ一対の搬送部材97a、97b間の基板22の受け渡しを中継する中継部材98とから成る搬送手段と、上記開口101a、101bを開閉する一対のロックバルブ99a、99bとを有した隔離室73aを、仕込室57、第1搬送室60、第2搬送室65および取出室69に設ける。これにより各サテライト51、52、53との間、および枚葉式真空処理装置50の内外とを常に相真空絶縁でき、真空処理される基板の品質を低下させることなく、種々の複合プロセスが可能となる。

請求項（抜粋）：

回転テーブルの外周縁部に等角度間隔に配設された複数の基板ホルダと、該各基板ホルダの直上方に配設された複数の真空処理室と、前記回転テーブルを回転駆動する第1駆動機構と、前記回転テーブルを昇降駆動する第2駆動機構とから成る枚葉式真空処理機械を複数備え、真空処理工程の順序で、第1の前記枚葉式真空処理機械は前記複数の真空処理室のうち少なくとも1つの真空処理室を仕込室とし、又更に他の少なくとも1つの真空処理室を搬送室とし、第2の前記枚葉式真空処理機械は前記複数の真空処理室のうち少なくとも1つの真空処理室を第1搬送室とし、又他の少なくとも1つの真空処理室は第2搬送室とし、同様に、第3の前記枚葉式真空処理機械は前記複数の真空処理室のうち少なくとも1つの真空処理室を第1搬送室とし、又他の少なくとも1つの真空処理室を第2搬送室とし、以下、同様に第4、第5、・・・、第n番目の前記枚葉式真空処理機械を構成し、かつ該第n番目の枚葉式真空処理機械の前記第2搬送室は取出室とし、前記第1、第2駆動機構により前記回転テーブルを所定角度ずつ回転させ、かつ前記回転テーブルを所定距離上昇させて前記各真空処理室を真空絶縁して所定の真空処理を行わせるようにし、前記第1の枚葉式真空処理機械の前記各真空処理室で第1の真空処理を行った基板を前記搬送室及び前記第2の枚葉式真空処理機械の前記第1搬送室を介して前記第2の枚葉式真空処理機械の前記第1搬送室、前記各真空処理室に前記第1、第2駆動機構の駆動により順次前記基板ホルダで支持し、かつ真空絶縁して第2の真空処理を行わせ、該第2の真空処理を行った前記基板を前記第2の搬送室及び前記第3の枚葉式真空処理機械の前記第1搬送室を介して前記第3の枚葉式真空処理機械の前記第1搬送室、前記各真空処理室に前記第1、第2駆動機構の駆動により順次、前記基板ホルダで支持し、かつ真空絶縁して第3の真空処理を行わせ、前記第2搬送室及び前記第4の枚葉式真空処理機械の前記第1搬送室を介して、以下同様に、第4、第5、・・・、第n番目の真空処理を行わせた後、前記取出室より外方に前記第1乃至第n番目の真空処理済の前記基板を取り出すようにし、かつ前記第1の枚葉式真空処理機械の前記搬送室内と前記第2の枚葉式真空処理機械の前記第1搬送室との間に共通の第1隔離室を設け、該第1隔離室内部に前記第1の枚葉式真空処理機械の前記搬送室から前記第2の枚葉式真空処理機械の前記第1搬送室へ基板を搬送する第1搬送手段と、前記第1の枚葉式真空処理機械内と前記第2の枚葉式真空処理機械内とを相互に真空絶縁する一対の第1ロックバルブを設け、該第1ロックバルブは前記第1隔離室の壁部に形成された一対の第1開口を開閉するための第1弁板を備え、かつ前記第1隔離室と前記第1の枚葉式真空処理機械の前記搬送室、及び前記第1隔離室と前記第2の枚葉式真空処理機械の前記第1搬送室を交互に真空絶縁可能とし、前記第2の枚葉式真空処理機械の前記第2搬送室と前記第3の枚葉式真空処理機械の前記第1搬送室との間に共通の第2隔離室を設け、該第2隔離室内部に前記第2の枚葉式真空処理機械の前記第2搬送室から前記第3の枚葉式真空処理機械の前記第1搬送室へ基板を搬送する第2搬送手段と、前記第2の枚葉式真空処理機械内と前記第3の枚葉式真空処理機械内とを相互に真空絶縁する一対の第2ロックバルブを設け、該第2ロックバルブは前記第2隔離室の壁部に形成された一対の第2開口を開閉するための第2弁板を備え、かつ前記第2隔離室と前記第2の枚葉式真空処理機械の前記第2搬送室、及び前記第2隔離室と前記第3の枚葉式真空処理機械の前記第1搬送室を交互に真空絶縁可能とし、前記第3の枚葉式真空処理機械の前記第2搬送室と前記第4の枚葉式真空処理機械の前記第1搬送室との間に共通の第3隔離室を設け、該第3隔離室内部に前記第3の枚葉式真空処理機械の前記第2搬送室から前記第4の枚葉式真空処理機械の前記第1搬送室へ基板を搬送する第3搬送手段と、前記第3の枚葉式真空処理機械内と前記第4の枚葉式真空処理機械内とを相互に真空絶縁する一対の第3ロックバルブを設け、該第3ロックバルブは前記第3隔離室の壁部に形成された一対の第3開口を開閉するための第3弁板を備え、かつ前記第3隔離室と前記第3の枚葉式真空処理機械の前記第2搬送室、及び前記第3隔離室と前記第4の枚葉式真空処理機械の前記第1搬送室を交互に真空絶縁可能とし、以下、同様に第4、第5、・・・、第(n-1)隔離室を構成し、常に各前記枚葉式真空処理機械内を相真空絶縁するようにしたことを特徴とする枚葉式真空処理装置。

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開平4-193944
マルチチャンバシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-107693 出願人：株式会社日立製作所
チャンバシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-088277 出願人：株式会社日立製作所

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審査官引用 (6件)

特開平4-193944
マルチチャンバシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-107693 出願人：株式会社日立製作所
チャンバシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-088277 出願人：株式会社日立製作所

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