特許
J-GLOBAL ID：201303069801235334

光学機能性積層体上に防汚性被膜を形成するための処理剤

発明者：
濱口 滋生

濱口 滋生 について

, 
赤松 佳則

赤松 佳則 について


出願人/特許権者：
セントラル硝子株式会社

セントラル硝子株式会社 について


代理人 (1件)： 小出 誠
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-240463
公開番号（公開出願番号）：特開2009-067958
特許番号：特許第5163022号
出願日： 2007年09月18日
公開日（公表日）： 2009年04月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】基材上に薄膜の積層によって光学的な機能を生じせしめた光学機能性積層体の最表面に防汚性被膜を形成するための処理剤であり、 少なくとも一つの末端に加水分解可能な官能基を2個又は3個有し、且つジメチルシロキサンユニット(Si(CH3)2O)の数が30〜400である直鎖状ポリジメチルシロキサン、及び 加水分解可能な官能基を有し、且つフルオロカーボンユニット(CF2又はCF3)の数が6〜12であるフルオロアルキルシラン、そして、 有機溶媒、前記直鎖状ポリジメチルシロキサン及び前記フルオロアルキルシランの加水分解可能な官能基を加水分解させる酸、及び水を混合してなる処理剤であり、 処理剤の総量に対し、重量濃度で 前記直鎖状ポリジメチルシロキサンが0.2〜3.0重量%、 前記フルオロアルキルシランが0.2〜2.0重量%、そして、 前記直鎖状ポリジメチルシロキサンと前記フルオロアルキルシランとの総量が0.5〜3.5重量% 混入されたことを特徴とする処理剤。
IPC (4件)：
C09D 183/04 ( 200 6.01) ,  G02B 1/10 ( 200 6.01) ,  C09D 183/08 ( 200 6.01) ,  C09D 5/16 ( 200 6.01)
FI (4件)：
C09D 183/04 ,  G02B 1/10 Z ,  C09D 183/08 ,  C09D 5/16
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM