転写装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：藤本昇 , 薬丸誠一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-160114
公開番号（公開出願番号）：特開2013-022844
出願日： 2011年07月21日
公開日（公表日）： 2013年02月04日
要約：

【課題】どのような形状の被転写ワークであっても、その表面に、転写フィルムに印刷された柄や機能膜をきれいに転写する。【解決手段】互いの処理室20,30の開口部2c,3cが対向するように一対のチャンバ2,3が配置され、各処理室20,30の開口部2c,3cが密着されて取り付けられた際に、各チャンバ2,3の処理室20,30を仕切れるように、いずれか一方の開口部2c,3cに、転写フィルムFをセットし、一方のチャンバ3の処理室30に被転写ワークWを載置し、各チャンバ2,3の処理室20,30を同時に真空引きした後、他方のチャンバ3の処理室30の真空引きを停止するとともに、一方のチャンバ3の処理室30をさらに真空引きを継続し、その後、他方の処理室20を徐々に真空破壊して、被転写ワークWの表面Waに転写フィルムFを接地する。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

互いの処理室(20,30)の開口部(2c、3c)が対向するように一対のチャンバ(2,3)が配置され、各処理室(20,30)の開口部(2c、3c)が密着されて取り付けられた際に、各チャンバ(2,3)の処理室(20,30)を仕切れるように、いずれか一方の前記開口部(2c、3c)に、転写フィルム(F)をセットする転写フィルムセット工程と、一方のチャンバ(2)の処理室(20)に被転写ワーク(W,W1〜W4)を載置する被転写ワークセット工程とを備えた転写方法において、各チャンバ(2,3)の転写フィルム(F)で仕切られた処理室(20,30)を同時に真空引きした後、他方のチャンバ(3)の処理室(30)の真空引きを停止するとともに、一方のチャンバ(2)の処理室(20)をさらに真空引きを継続し、その後、他方の処理室(30)を徐々に真空破壊して、被転写ワーク(W,W1〜W4)の表面(Wa)に転写フィルム(F)を接地するようにした転写フィルム接地工程と、被転写ワーク(W,W1〜W4)の表面(Wa)に接地された転写フィルム(F)に、加熱された空気を加圧して供給し、該転写フィルム(F)の柄や機能膜を提供するインク剤を被転写ワーク(W,W1〜W4)の表面(Wa)に移行転写させる転写工程とを備えることを特徴とする転写方法。

IPC (1件)：

B44C 1/17

FI (1件)：

B44C1/17 A

Fターム (6件)：

3B005EB05 , 3B005EB07 , 3B005EC11 , 3B005GA02 , 3B005GA07 , 3B005GB03

引用特許：

出願人引用 (7件)

特開平1-317799
熱転写装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-048950 出願人：国城金型工業株式会社, 豊栄フジ工業株式会社
絵付方法及び絵付装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-118459 出願人：ナビタス株式会社

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審査官引用 (8件)

特開平1-317799
熱転写装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-048950 出願人：国城金型工業株式会社, 豊栄フジ工業株式会社
絵付方法及び絵付装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-118459 出願人：ナビタス株式会社

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