特許
J-GLOBAL ID：201303073979326195
X線装置、X線照射方法、構造物の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-088648
公開番号（公開出願番号）：特開2013-217773
出願日： 2012年04月09日
公開日（公表日）： 2013年10月24日
要約：
【課題】検出精度の低下を抑制できるX線装置、X線照射方法、構造物の製造方法を提供する。【解決手段】X線源と、X線を検出する検出器と、検出器に入射するX線を部分的に遮蔽可能な遮蔽部材と、を有し、検出器で検出された遮蔽部材の透過後のX線の検出量に基づいてX線源の位置情報を取得する、X線装置。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
X線源と、前記X線源から放射されたエネルギー線を検出する検出器と、前記検出器に入射するエネルギー線を、前記エネルギー線の伝播方向に応じて部分的に遮蔽する遮蔽部材と、を有し、
前記検出器で検出された前記遮蔽部材の開口通過後の前記エネルギー線の検出結果に基づいて前記X線源の位置情報を取得する、X線装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
2G001AA01
, 2G001BA11
, 2G001CA01
, 2G001GA12
, 2G001HA13
審査官引用 (7件)
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X線撮影装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平7-248843
出願人：キヤノン株式会社
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特開昭61-220631
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特開昭62-194835
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引用文献：
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