特許
J-GLOBAL ID：201303076098515555

ポリシランの製造方法

発明者：
小川 昭弥

小川 昭弥 について

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野元 昭宏

野元 昭宏 について

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宮内 信輔

宮内 信輔 について

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長嶋 太一

長嶋 太一 について


出願人/特許権者：
公立大学法人大阪府立大学

公立大学法人大阪府立大学 について

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大阪ガスケミカル株式会社

大阪ガスケミカル株式会社 について


代理人 (4件)： 鮫島 睦 ,  田村 恭生 ,  新免 勝利 ,  佐藤 洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-182176
公開番号（公開出願番号）：特開2013-043932
出願日： 2011年08月24日
公開日（公表日）： 2013年03月04日
要約：
【課題】安全で環境汚染の危険性の無いポリシランの製造方法であって、分子量分布の狭いポリシランを収率よく製造し得るポリシランの製造方法の提供。【解決手段】一般式(1): X1(SiR1R2)mX1 (1)(式中、mは1〜3であり、R1およびR2は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12の(置換)ビニル基、炭素数6〜12の(置換)アリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12の(置換)アミノ基またはシリル基を表し、X1はハロゲン原子を表す。)で表されるジハロシランを、ハロゲン化サマリウム(II価)およびサマリウムの存在下、光を作用させて重合することにより、一般式(2): -((SiR1R2)m)n- (2)(式中、nは2〜1000であり、m、R1およびR2は前記と同義である。)で表されるポリシランを形成させる、ポリシランの製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
ポリシランの製造方法であって、一般式(1): X1(SiR1R2)mX1 (1) (式中、mは1〜3であり、R1およびR2は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12の(置換)ビニル基、炭素数6〜12の(置換)アリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12の(置換)アミノ基またはシリル基を表し、X1はハロゲン原子を表す。)で表されるジハロシランを、ハロゲン化サマリウム(II価)およびサマリウムの存在下、光を作用させて重合することにより、 一般式(2): -((SiR1R2)m)n- (2) (式中、nは2〜1000であり、m、R1およびR2は前記と同義である。) で表されるポリシランを形成させる、ポリシランの製造方法。
IPC (1件)：
C08G 77/60
FI (1件)：
C08G77/60
Fターム (32件)：
4J246AA06 ,  4J246AB01 ,  4J246BA02X ,  4J246BA020 ,  4J246BB45X ,  4J246BB450 ,  4J246BB452 ,  4J246CA130 ,  4J246CA24X ,  4J246CA240 ,  4J246CA340 ,  4J246CA390 ,  4J246CA40X ,  4J246CA400 ,  4J246CA760 ,  4J246FA041 ,  4J246FA161 ,  4J246FA321 ,  4J246FA431 ,  4J246FA571 ,  4J246FC211 ,  4J246FE12 ,  4J246FE23 ,  4J246FE32 ,  4J246FE35 ,  4J246GA01 ,  4J246GA02 ,  4J246GB11 ,  4J246GB32 ,  4J246HA11 ,  4J246HA15 ,  4J246HA56
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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