特許
J-GLOBAL ID：201303076450670787

ECRプラズマ生成装置、およびそれを用いたマグネトロンスパッタ成膜装置

発明者：
笹井 建典

笹井 建典 について

, 
豊田 浩孝

豊田 浩孝 について


出願人/特許権者：
東海ゴム工業株式会社

東海ゴム工業株式会社 について

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国立大学法人名古屋大学

国立大学法人名古屋大学 について


代理人 (2件)： 進藤 素子 ,  東口 倫昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-252383
公開番号（公開出願番号）：特開2013-108115
出願日： 2011年11月18日
公開日（公表日）： 2013年06月06日
要約：
【課題】低圧下で高密度のプラズマを生成可能なECRプラズマ生成装置、および表面の凹凸が小さい薄膜を形成可能なマグネトロンスパッタ成膜装置を提供する。【解決手段】ECRプラズマ生成装置4は、マイクロ波を伝送する矩形導波管41と、該マイクロ波が通過するスロットを有するスロットアンテナ42と、スロットを覆うように配置され、プラズマ生成領域側の表面はスロットから入射する該マイクロ波の入射方向に平行である誘電体部43と、誘電体部43の裏面に配置される支持板44と、支持板44の裏面に配置される永久磁石45と、を備え、ECRプラズマP1を生成する。マグネトロンスパッタ成膜装置1は、ECRプラズマ生成装置4を備え、基材20とターゲット30との間にECRプラズマP1を照射しながら、マグネトロンプラズマP2による成膜を行う。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
真空容器内にマイクロ波を用いた電子サイクロトロン共鳴(ECR)によりプラズマを生成するECRプラズマ生成装置であって、 マイクロ波を伝送する矩形導波管と、 該矩形導波管の一面に配置され、該マイクロ波が通過するスロットを有するスロットアンテナと、 該スロットアンテナの該スロットを覆うように配置され、プラズマ生成領域側の表面は該スロットから入射する該マイクロ波の入射方向に平行である誘電体部と、 該誘電体部の裏面に配置され該誘電体部を支持する支持板と、 該支持板の裏面に配置され該プラズマ生成領域に磁場を形成する永久磁石と、 を備え、 該誘電体部から該磁場中に伝播する該マイクロ波によりECRを発生させながらプラズマを生成することを特徴とするECRプラズマ生成装置。
IPC (2件)：
C23C 14/35 ,  C23C 14/34
FI (2件)：
C23C14/35 F ,  C23C14/34 T
Fターム (10件)：
4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA50 ,  4K029CA06 ,  4K029DC05 ,  4K029DC34 ,  4K029DC39 ,  4K029DC40 ,  4K029DC48 ,  4K029EA03
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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