特許

J-GLOBAL ID：201303076503704484

ホイスカー防止用スズメッキ浴、及びスズメッキ方法

発明者： 辻 清貴 ,  小幡 惠吾 ,  吉本 雅一
出願人/特許権者： 石原薬品株式会社 ,  株式会社大和化成研究所
代理人 (1件)： 豊永 博隆
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-294465
公開番号（公開出願番号）：特開2003-105589
特許番号：特許第4864256号
出願日： 2001年09月26日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 可溶性第一スズ塩を含有してなるスズメッキ浴において、 メッキ浴中の銅の含有率が全スズイオンに対して10ppm以下であることを特徴とするホイスカー防止用スズメッキ浴。

IPC (6件)：

C25D 3/30 ( 200 6.01) ,  C25D 7/00 ( 200 6.01) ,  C25D 7/12 ( 200 6.01) ,  C25D 17/10 ( 200 6.01) ,  C25D 21/12 ( 200 6.01) ,  H01L 23/50 ( 200 6.01)

FI (8件)：

C25D 3/30 ,  C25D 7/00 G ,  C25D 7/00 H ,  C25D 7/00 J ,  C25D 7/12 ,  C25D 17/10 101 B ,  C25D 21/12 L ,  H01L 23/50 D

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開昭52-111428
  
• 特開平3-193891
  
• 特開昭62-077481
  
• 電子部品実装用フィルムキャリアテ-プ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-252338   出願人：三井金属鉱業株式会社
• 特開平2-170988
  

引用文献：

審査官引用 (2件)

• 日本工業規格塩化すず(II)二水和物(試薬), 19960301, pp. 1-2
• 日本工業規格すず(試薬), 19921031, p. 1