特許
J-GLOBAL ID:201303080200387114

エレクトロクロミック表示素子の製造方法及びエレクトロクロミック表示素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 昌義
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-267414
公開番号(公開出願番号):特開2013-140191
出願日: 2011年12月06日
公開日(公表日): 2013年07月18日
要約:
【課題】消え残りを低減したエレクトロクロミック表示素子及びエレクトロクロミック表示素子の製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の一観点に係るエレクトロミック表示素子の製造方法は、ITOナノ粒子を基板上に塗布する塗布工程と、基板を焼成する焼成工程と、を有する。 また、本発明の他の一観点に係るエレクトロクロミック表示素子は、一対の基板と、基板の対向する一対の面にそれぞれ形成される電極と、一対の基板間に挟持される媒体層と、を有するエレクトロクロミック表示素子であって、媒体層はビオロゲン化合物を含み、電極の少なくとも一方は、ITOナノ粒子を焼成した膜である。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
ITOナノ粒子を基板上に塗布する塗布工程と、 前記基板を焼成する焼成工程と、を有するエレクトロミック表示素子の製造方法。
IPC (1件):
G02F 1/155
FI (1件):
G02F1/155
Fターム (13件):
2K101AA22 ,  2K101DA01 ,  2K101DB03 ,  2K101DB23 ,  2K101DC03 ,  2K101DC43 ,  2K101EE02 ,  2K101EG52 ,  2K101EH04 ,  2K101EH25 ,  2K101EJ11 ,  2K101EJ23 ,  2K101EK35
引用特許:
審査官引用 (5件)
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