特許
J-GLOBAL ID:201303084962193525

照射計画装置、照射計画プログラム、照射計画決定方法、および荷電粒子照射システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西原 広徳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-106365
公開番号(公開出願番号):特開2013-233233
出願日: 2012年05月07日
公開日(公表日): 2013年11月21日
要約:
【課題】標的に対して望ましい線量分布の照射を実現できる照射計画装置、照射計画プログラム、照射計画決定方法、および荷電粒子照射システムを提供する。【解決手段】イオン源2で生成した荷電粒子を線形加速器4およびシンクロトロン5で加速して標的80に照射する荷電粒子照射システム1の照射パラメータデータ67を決定する計画装置70について、1つの標的80に対する照射パラメータデータ67を、複数種類のイオン種の荷電粒子を組み合わせて決定する計画プログラム73とこれを実行するCPU71を備えた。【選択図】図3
請求項(抜粋):
イオン源で生成した荷電粒子を加速器で加速して標的に照射する荷電粒子照射システムの照射パラメータを決定する照射計画装置であって、 1つの標的に対する前記照射パラメータを、複数種類のイオン種の前記荷電粒子を組み合わせて決定する、複合照射パラメータ決定手段を備えた 照射計画装置。
IPC (1件):
A61N 5/10
FI (2件):
A61N5/10 D ,  A61N5/10 M
Fターム (9件):
4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE03 ,  4C082AG02 ,  4C082AG13 ,  4C082AG42 ,  4C082AG52 ,  4C082AN02 ,  4C082AP02
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)
引用文献:
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