特許
J-GLOBAL ID：201303085941110367
光導波路の製造方法及び光導波路
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
大谷 保
, 平澤 賢一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-150542
公開番号（公開出願番号）：特開2013-214111
出願日： 2013年07月19日
公開日（公表日）： 2013年10月17日
要約：
【課題】光導波路を生産性良く製造でき、コア層と上部クラッド層との間に気泡が残らない光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】基材上に形成されたクラッド層形成用樹脂を硬化して下部クラッド層を形成する工程、該下部クラッド層上にコア層形成用樹脂フィルムを積層してコア層を形成する工程、該コア層を露光現像してコアパターンを形成する工程、および該コアパターン上に、支持体フィルムに上部クラッド層形成用樹脂を積層してなる上部クラッド層形成用樹脂フィルムを該樹脂が該コアパターンに接触するように積層する工程、その後、温度40〜200°Cで加熱処理を行う工程、該クラッド層形成用樹脂を硬化して、上部クラッド層を形成する工程を有する光導波路の製造方法、及び溶融粘度が120〜180Pa・sである樹脂より形成されてなる光導波路である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
基材上に形成されたクラッド層形成用樹脂を硬化して下部クラッド層を形成する工程、該下部クラッド層上にコア層形成用樹脂フィルムを積層してコア層を形成する工程、該コア層を露光現像してコアパターンを形成する工程、および該コアパターン上に、支持体フィルムに上部クラッド層形成用樹脂を積層してなる上部クラッド層形成用樹脂フィルムを該樹脂が該コアパターンに接触するように積層する工程、その後、温度40〜200°Cで加熱処理を行う工程、該クラッド層形成用樹脂を硬化して、上部クラッド層を形成する工程を有する光導波路の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (13件)：
2H147BG17
, 2H147EA12C
, 2H147EA13C
, 2H147EA14C
, 2H147EA16B
, 2H147EA16C
, 2H147EA17C
, 2H147EA19B
, 2H147EA20A
, 2H147EA20B
, 2H147FB04
, 2H147FD15
, 2H147FF05
