特許
J-GLOBAL ID：201303088301567459
磁気記録媒体、及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (19件)：
蔵田 昌俊
, 高倉 成男
, 河野 哲
, 中村 誠
, 福原 淑弘
, 峰 隆司
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 幸長 保次郎
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 井関 守三
, 赤穂 隆雄
, 井上 正
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
, 竹内 将訓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-033315
公開番号（公開出願番号）：特開2013-171596
出願日： 2012年02月17日
公開日（公表日）： 2013年09月02日
要約：
【課題】微細パターンの転写性が良好で、かつ面内均一性を改善された磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】磁気記録層上に、剥離層、第1の金属材料を含有する第1のマスク層、第1の金属材料の酸化物または窒化物を含む拡散抑制層、及び第2の金属材料を含有する第2のマスク層を形成し、第2のマスク層上にレジスト層を形成して凹凸パターンを設け、凹凸パターンを第2のマスク層、拡散抑制層、第1のマスク層、剥離層、及び磁気記録層へ順に転写する。その後、剥離層を除去する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に磁気記録層を形成する工程と、
前記磁気記録層上に剥離層を形成する工程と、
前記剥離層上に、第1の金属材料を含有する第1のマスク層を形成する工程と、
前記第1のマスク層を酸素もしくは窒素雰囲気に曝露し、該第1のマスク層の表面領域を改質して第1の金属材料の酸化物または窒化物を含む拡散抑制層を形成する工程と、
前記拡散抑制層上に、前記第1の金属材料とは異なる第2の金属材料を含有する第2のマスク層を形成する工程と、
前記第2のマスク層上にレジスト層を形成する工程と、
前記レジスト層をパターニングして凹凸パターンを設ける工程と、
前記凹凸パターンを前記第2のマスク層へ転写する工程と、
前記凹凸パターンを前記拡散抑制層へ転写する工程と、
前記凹凸パターンを前記第1のマスク層へ転写する工程と、
前記凹凸パターンを前記剥離層へ転写する工程と、
前記凹凸パターンを前記磁気記録層へ転写する工程と、
前記剥離層を除去すると共に、前記剥離層上に残存する層を剥離する工程とを具備することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (10件)：
5D006BB07
, 5D006DA03
, 5D006DA08
, 5D112AA03
, 5D112AA05
, 5D112AA16
, 5D112AA20
, 5D112AA24
, 5D112BA01
, 5D112GA00
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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