特許
J-GLOBAL ID:201303089757182350

固体電解質膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 岸本 達人 ,  山下 昭彦 ,  山本 典輝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-013049
公開番号(公開出願番号):特開2013-151721
出願日: 2012年01月25日
公開日(公表日): 2013年08月08日
要約:
【課題】イオン伝導性に優れた、Li3xLa2/3-xTiO3(0.05≦x≦0.17)からなる固体電解質膜を提供する。【解決手段】組成式Li3xLa2/3-xTiO3(0.05≦x≦0.17)で表わされる固体電解質からなる固体電解質膜の製造方法であって、金属リチウム、金属ランタン、金属チタン、リチウム-ランタン合金、リチウム-チタン合金、ランタン-チタン合金、及びリチウム-ランタン-チタン合金のうち、少なくとも1種を気相化させ、リチウム、ランタン及びチタンを含む気相原料を生成する工程と、前記気相原料と単元素状態の酸素とを反応させ、気相法により基板上にLi3xLa2/3-xTiO3(0.05≦x≦0.17)薄膜を堆積させる工程と、を有することを特徴とする、固体電解質膜の製造方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
組成式Li3xLa2/3-xTiO3(0.05≦x≦0.17)で表わされる固体電解質からなる固体電解質膜の製造方法であって、 金属リチウム、金属ランタン、金属チタン、リチウム-ランタン合金、リチウム-チタン合金、ランタン-チタン合金、及びリチウム-ランタン-チタン合金のうち、少なくとも1種を気相化させ、リチウム、ランタン及びチタンを含む気相原料を生成する工程と、 前記気相原料と単元素状態の酸素とを反応させ、気相法により基板上にLi3xLa2/3-xTiO3(0.05≦x≦0.17)薄膜を堆積させる工程と、 を有することを特徴とする、固体電解質膜の製造方法。
IPC (3件):
C23C 14/08 ,  H01M 10/056 ,  H01B 13/00
FI (3件):
C23C14/08 K ,  H01M10/00 107 ,  H01B13/00 Z
Fターム (14件):
4K029BA50 ,  4K029BB07 ,  4K029CA02 ,  4K029DA12 ,  4K029DB14 ,  4K029DB18 ,  4K029DB21 ,  4K029EA08 ,  4K029GA01 ,  5H029AJ06 ,  5H029AM12 ,  5H029CJ02 ,  5H029HJ02 ,  5H029HJ14
引用特許:
審査官引用 (1件)

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