特許
J-GLOBAL ID:201303090172821321

III族窒化物結晶及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-197446
公開番号(公開出願番号):特開2013-056820
出願日: 2012年09月07日
公開日(公表日): 2013年03月28日
要約:
【課題】積層欠陥が少ないIII族窒化物結晶を提供する。【解決手段】III族窒化物からなり半極性面又は非極性面を主面とする種結晶101上にIII族窒化物半導体層102が形成されたIII族窒化物結晶100であって、前記種結晶101の主面内の輝線密度(α)と前記III族窒化物半導体層102の前記主面と平行な面内の輝線密度(β)との比(β/α)が10以下であるか、|β-α|が50以下であるIII族窒化物結晶100。【選択図】図2
請求項(抜粋):
III族窒化物からなり半極性面又は非極性面を主面とする種結晶上にIII族窒化物半導体層が形成されたIII族窒化物結晶であって、前記種結晶の主面内の輝線密度(α)と前記III族窒化物半導体層の前記主面と平行な面内の輝線密度(β)との比(β/α)が10以下であるIII族窒化物結晶。
IPC (3件):
C30B 29/38 ,  C30B 7/10 ,  C01B 21/06
FI (3件):
C30B29/38 D ,  C30B7/10 ,  C01B21/06 A
Fターム (9件):
4G077AA02 ,  4G077AB01 ,  4G077AB04 ,  4G077CB03 ,  4G077EB01 ,  4G077EB06 ,  4G077ED06 ,  4G077HA02 ,  4G077HA12
引用特許:
審査官引用 (5件)
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