化合物、ラジカル重合開始剤、化合物の製造方法、重合体、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 五十嵐光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-173408
公開番号（公開出願番号）：特開2013-060419
出願日： 2012年08月03日
公開日（公表日）： 2013年04月04日
要約：

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な重合体、該重合体の製造に用いるラジカル重合開始剤として有用な化合物、該化合物の製造方法、該化合物からなるラジカル重合開始剤、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】一般式(I)で表される化合物。式(I)中、R1は炭素数1〜10の炭化水素基であり、Zは炭素数1〜10の炭化水素基又はシアノ基であり、R1とZとは相互に結合して環を形成していてもよい。Xは単結合、又は-O-C(=O)-、-NH-C(=O)-若しくは-NH-C(=NH)-を含んでいてもよい2価の連結基である。R2は置換基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基である(但し、当該炭化水素基を構成する炭素原子の一部が、炭素原子以外の原子又は原子団で置換されていてもよい)。[化1]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表される化合物。

IPC (6件)：

C07C 255/65 , G03F 7/039 , G03F 7/038 , C07C 253/30 , C08F 4/04 , H01L 21/027

FI (6件)：

C07C255/65 , G03F7/039 601 , G03F7/038 601 , C07C253/30 , C08F4/04 , H01L21/30 502R

Fターム (53件)：

2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF38P , 2H125AF41P , 2H125AF43P , 2H125AF45P , 2H125AF70P , 2H125AH05 , 2H125AH13 , 2H125AH15 , 2H125AH16 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH22 , 2H125AH23 , 2H125AH24 , 2H125AH29 , 2H125AJ12X , 2H125AJ14X , 2H125AJ18X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ68X , 2H125AJ69X , 2H125AM22P , 2H125AM99P , 2H125AN02P , 2H125AN21P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN54P , 2H125AN63P , 2H125BA02P , 2H125BA08P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC01 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125CC17 , 2H125EA01P , 2H125FA03 , 2H125FA05 , 4H006AA01 , 4H006AA02 , 4H006AA03 , 4H006AB40 , 4H006AC48 , 4H006BB12 , 4H006QN30 , 4J015AA06

引用特許：

審査官引用 (2件)

ポジ型リソグラフィー用共重合体、該共重合体の製造のための重合開始剤及び半導体リソグラフィー用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-138768 出願人：丸善石油化学株式会社
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-201282 出願人：東京応化工業株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

UKRAINSKII KHIMICHESKII ZHURNAL, 1997, 63(1-2), pp.132-136

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