ポジ型リソグラフィー用共重合体、該共重合体の製造のための重合開始剤及び半導体リソグラフィー用組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小林雅人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-138768
公開番号（公開出願番号）：特開2007-308586
出願日： 2006年05月18日
公開日（公表日）： 2007年11月29日
要約：

【課題】化学増幅ポジ型リソグラフィーにおいて使用され、溶解コントラスト等のリソグラフィー特性に優れた共重合体を提供する。【解決手段】ポジ型リソグラフィー用共重合体は、式(A)で表される繰り返し単位(A)と、式(B)で表される、酸解離性溶解抑制基でアルカリ可溶性基を保護した末端構造(B)を有する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

少なくとも、式(A)

IPC (5件)：

C08F 220/28 , G03F 7/033 , G03F 7/039 , H01L 21/027 , C08F 4/04

FI (5件)：

C08F220/28 , G03F7/033 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R , C08F4/04

Fターム (50件)：

2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025FA17 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB40 , 4J015AA01 , 4J015AA03 , 4J100AB07R , 4J100AJ02R , 4J100AL03P , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL09R , 4J100BA03R , 4J100BA04P , 4J100BA06P , 4J100BA11Q , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BA16R , 4J100BB18R , 4J100BC03P , 4J100BC04P , 4J100BC04R , 4J100BC08P , 4J100BC08R , 4J100BC09P , 4J100BC09R , 4J100BC12P , 4J100BC12R , 4J100BC53P , 4J100BC53Q , 4J100BC83Q , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100FA03 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (12件)

特開昭59-045439号公報
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-051811 出願人：東京応化工業株式会社
放射線感光材料及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-282664 出願人：ダイセル化学工業株式会社

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審査官引用 (2件)

感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-426162 出願人：JSR株式会社
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-341513 出願人：信越化学工業株式会社

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