特許

J-GLOBAL ID：201303095398784145

金属膜形成用組成物、金属膜、金属膜の形成方法および電子部品

発明者： 宮松 隆 ,  河口 和雄
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人SSINPAT
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-123429
公開番号（公開出願番号）：特開2012-251187
出願日： 2011年06月01日
公開日（公表日）： 2012年12月20日
要約：

【解決手段】表面部を含む一部分が金属の酸化物からなり、前記表面部を含む一部分以外の部分が前記金属からなる金属-金属酸化物複合粒子(A1)、および金属酸化物粒子(A2)から選択される少なくとも1種の金属酸化物含有粒子(A)、アルジトール(B)およびアルジトールの酸化物(C)を含有することを特徴とする金属膜形成用組成物。【効果】本発明の金属膜形成用組成物を用いると、金属膜を効率よく形成することができる。特に、本発明の金属膜形成用組成物は、膜厚の大きい金属膜であっても、イオン化傾向の大きい金属からなる膜であっても、効率よく形成することができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

表面部を含む一部分が金属の酸化物からなり、前記表面部を含む一部分以外の部分が前記金属からなる金属-金属酸化物複合粒子(A1)、および金属酸化物粒子(A2)から選択される少なくとも1種の金属酸化物含有粒子(A)、アルジトール(B)およびアルジトールの酸化物(C)を含有することを特徴とする金属膜形成用組成物。

IPC (4件)：

C23C 24/08 ,  C01G 3/02 ,  C23C 26/00 ,  C23C 18/40

FI (4件)：

C23C24/08 B ,  C01G3/02 ,  C23C26/00 K ,  C23C18/40

Fターム (19件)：

4K022AA13 ,  4K022AA42 ,  4K022BA08 ,  4K022DA01 ,  4K022DB01 ,  4K022DB24 ,  4K022EA04 ,  4K044AA16 ,  4K044AB08 ,  4K044BA06 ,  4K044BB01 ,  4K044BB03 ,  4K044BB11 ,  4K044BB13 ,  4K044BC14 ,  4K044CA24 ,  4K044CA27 ,  4K044CA53 ,  4K044CA59

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特許第3939735号
  
• 銅粉の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-316882   出願人：住友金属鉱山株式会社
• 金属微粒子インクペースト及び有機酸処理金属微粒子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-004596   出願人：三菱化学株式会社
• 導電膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-289870   出願人：東レ株式会社