特許
J-GLOBAL ID：201303096022631417
粒状多結晶シリコンおよびその生成
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人川口國際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-084568
公開番号（公開出願番号）：特開2013-234113
出願日： 2013年04月15日
公開日（公表日）： 2013年11月21日
要約：
【課題】0.001から200μmまでの結晶サイズの放射状針状結晶集合体を含む緻密なマトリックスを含む粒状多結晶シリコン。【解決手段】900-970°Cの流動床温度において、TCSと20-29mol%のTCS含量を有する水素とを含む気体混合物から流動床反応器内で粒状シリコンを生成すること、少なくとも1つのスクリーンデッキを備えるスクリーンシステム内で得られた粒状シリコンを、少なくとも2つ以上のスクリーン画分に分割し、最小のスクリーン画分を粉砕システム内で粉砕して、100-1500μmのサイズおよび400-900μmの範囲の質量基準中央値を有する種粒子を生じさせること、ならびにこれらの種粒子を流動床反応器(1)に供給することを含み、さらなるスクリーン画分が流動床反応器(4)に供給され、870-990°Cの流動床温度において、TCSと5.1-10mol%未満のTCS含量を有する水素とを含む気体混合物によって表面処理される、粒状多結晶シリコンを生成するための方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
好ましくは0.001から200μmまでの、より好ましくは0.01-29μm、最も好ましくは0.01-4μmの結晶サイズの放射状針状結晶集合体を含む緻密なマトリックスを含む、粒状多結晶シリコン。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (19件)：
4G072AA01
, 4G072BB04
, 4G072BB05
, 4G072BB12
, 4G072DD01
, 4G072DD02
, 4G072GG01
, 4G072GG03
, 4G072HH09
, 4G072JJ01
, 4G072MM26
, 4G072MM28
, 4G072QQ06
, 4G072QQ09
, 4G072RR17
, 4G072TT01
, 4G072TT30
, 4G072UU02
, 4G072UU30
