低熱膨張セラミックスおよびその製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人創成国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-234669
公開番号（公開出願番号）：特開2003-048771
特許番号：特許第4907791号
出願日： 2001年08月02日
公開日（公表日）： 2003年02月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ユークリプタイト50〜95体積%と、α-SiC、β-SiC及びSi3N4から選ばれる1種以上の化合物5〜50体積%とを含有する低熱膨張セラミックスであって、前記セラミックス中に含まれるFe2O3の含有量が0.05重量%以下であり、前記セラミックスの比透磁率が1.000以下、相対密度が98%以上、室温でのヤング率が120GPa以上、かつ、10〜40°Cにおける熱膨張係数が-1〜1×10-6/°Cであることを特徴とする低熱膨張セラミックス。

IPC (1件)：