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J-GLOBAL ID:201402202124927190   整理番号:14A0056090

パターンサファイア基板を変えることによるInGaAs活性層の圧電場低減

Reducing a Piezoelectric Field in InGaN Active Layers by Varying Pattern Sapphire Substrates
著者 (5件):
資料名:
巻: 60  号: 12  ページ: 4180-4184  発行年: 2013年12月 
JST資料番号: C0222A  ISSN: 0018-9383  CODEN: IETDAI  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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サファイア基板上に作ったInGaN LEDの内部量子効率(IQE)と圧電場(PZ)を解析した。パターン形成したサファイア基板はGaNの欠陥密度を抑えGaN LEDの光抽出効率を高める。頭頂切断ピラミッド(TP)とピラミッド(P)のパターン形成したサファイア基板上にInGaN LEDを作り,内部量子効率(IQE)と圧電場(PZ)を解析した。TP-LEDのフラットバンド電圧(-12V)に比較してP-LEDでは低い(-8V)のフラットバンドとなり,P-LED構造で低いPZが観察される。P-LEDのIQEは86%であり,TP-LEDの76%よりも高い。高IQE,低PZ,高い光抽出効率はピラミッドパターンサファイア基板上に作ったInGaN LEDで達成される。
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