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J-GLOBAL ID：201402202236572653   整理番号：14A0859250

遠隔通信応用のための高性能シリコンフォトニクス技術

High-performance silicon photonics technology for telecommunications applications

著者 (10件)： YAMADA Koji (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  TSUCHIZAWA Tai (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  NISHI Hidetaka (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  KOU Rai (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  HIRAKI Tatsurou (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  TAKEDA Kotaro (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  FUKUDA Hiroshi (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  ISHIKAWA Yasuhiko (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  WADA Kazumi (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  YAMAMOTO Tsuyoshi (NTT Corp., Kanagawa, JPN)
資料名： Science and Technology of Advanced Materials (Web)  (Science and Technology of Advanced Materials (Web))
巻： 15  号： 2  ページ： 024603 (WEB ONLY)  発行年： 2014年04月 
JST資料番号： U7009A  ISSN： 1878-5514  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリコンフォトニクス技術を簡潔にレビューし,実用的な遠隔通信応用のためには,デバイス性能の著しい改善が必要であることを示した。シリコンフォトニクスのデバイス性能を改善するために,Si-Ge-シリカモノリシック集積プラットホームを開発した。これに基づいて,Si-Ge系小型変調器/検出器をシリカ系高性能波長フィルタとモノリシックに集積した。プラットホームの特徴は,シリカ膜が低温堆積されるために,Si-Ge系能動デバイスが損傷されないことであった。このプラットホームを利用して,広帯域遠隔通信用の多様な集積フォトニックデバイスを開発した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *オプトエレクトロニクス ,  CMOS構造 ,  *ケイ素 ,  光通信 ,  半導体素子 ,  能動回路 ,  ゲルマニウム ,  集積 ,  *光変調素子 ,  *光検出器 ,  帯域フィルタ ,  広帯域 ,  *集積光学 ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  *シリコンフォトニクス ,  遠隔通信

分類 (1件)： 光集積回路,集積光学  (BD06050D)

タイトルに関連する用語 (4件)： 遠隔通信 ,  応用 ,  高性能 ,  シリコンフォトニクス