研究者
J-GLOBAL ID:200901092349858720   更新日: 2024年07月15日

石川 靖彦

イシカワ ヤスヒコ | Ishikawa Yasuhiko
所属機関・部署:
職名: 教授
ホームページURL (1件): http://www.int.ee.tut.ac.jp/photon/
研究分野 (4件): 光工学、光量子科学 ,  電子デバイス、電子機器 ,  電気電子材料工学 ,  結晶工学
研究キーワード (5件): エピタキシャル成長 ,  光電子集積 ,  光デバイス ,  シリコン・ゲルマニウム ,  シリコンフォトニクス
競争的資金等の研究課題 (34件):
  • 2023 - 2026 Novel group-IV nitride films by reactive sputtering as potential nonlinear optical materials in Si photonics
  • 2022 - 2025 高品質グラフェンとシリコンフォトニクスのヘテロ集積によるTHz-光融合
  • 2021 - 2024 Si上に選択エピタキシャル成長したGe層に対するウエハ面内バンドエンジニアリング
  • 2018 - 2021 表面プラズモン論理演算回路構成技術の創出
  • 2015 - 2020 光信号の低コスト受信モニタリングのための小型光位相同期回路の研究開発
全件表示
論文 (207件):
  • Abdelrahman Al-Attili, Daniel Bur, Zuo Li, Naoki Higashitarumizu, Frederic Gardes, Yasuhiko Ishikawa, Shinichi Saito. Mechanically Induced Optical Loss Mechanism due to Thermal Expansion Coefficient Mismatch in Micro-Cavities with All-Around Stressor Layers. APL Photonics. 2024. 9. 5
  • Shohei Kaneko, Jose A. Piedra-Lorenzana, Keisuke Yamane, Junichi Fujikata, Yasuhiko Ishikawa. Franz-Keldysh Effect in Lateral pin Photodetectors of Ge Strip on Si at C-, L- and U-Band Wavelengths. IEEE International Conference on Group IV Photonics GFP. 2024
  • Takumi Maeda, Kota Kato, Jose A. Piedra-Lorenzana, Takeshi Hizawa, Tetsuya Nakai, Yasuhiko Ishikawa. Trench-filling heteroepitaxy of [100]-oriented germanium arrays on (001) silicon substrate. Japanese Journal of Applied Physics. 2024. 63. 3. 03SP29
  • Joshua Chombo, Mohd Faiz Bin Amin, Jose A. Piedra-Lorenzana, Takeshi Hizawa, Keisuke Yamane, Mingjun Jiang, Donghwan Ahn, Kazumi Wada, Yasuhiko Ishikawa. Anti-relaxation of tensile lattice strain in Si-embedded Ge strip structure for photonic device applications. Japanese Journal of Applied Physics. 2024. 63. 3. 03SP32
  • Mohd Faiz Bin Amin, Jose A. Piedra-Lorenzana, Keisuke Yamane, Takeshi Hizawa, Tetsuya Nakai, Yasuhiko Ishikawa. High-quality Ge epitaxial film based on dislocation trapping mechanism in patterned Si substrate. Japanese Journal of Applied Physics. 2023. 63. 2. 02SP78
もっと見る
MISC (275件):
  • AMIN Mohd Faiz Bin, PIEDRA-LORENZANA Jose A., YAMENE Keisuke, HIZAWA Takeshi, NAKAI Tetsuya, ISHIKAWA Yasuhiko. V溝パターンを形成したSi基板上へのGe層のエピタキシャル成長. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2023. 84th
  • PIEDRA-LORENZANA Jose A., KANEKO Shohei, FUKUSHIMA Takaaki, YAMANE Keisuke, FUJIKATA Junichi, ISHIKAWA Yasuhiko. Ge-on-SiフォトニックデバイスのためのAlNストレッサー層【JST・京大機械翻訳】. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2023. 84th
  • 前田匠海, 加藤滉大, PIEDRA-LORENZANA Jose A., 山根啓輔, 飛沢健, 中井哲弥, 石川靖彦. Si上Ge埋め込みエピタキシャル成長におけるトレンチ幅の影響. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2023. 84th
  • 古家聖輝, 葛谷樹矢, PIEDRA-LORENZANA Jose A., 飛沢健, 山根啓輔, 藤原弘康, 石川靖彦. Si上Ge層の固相成長におけるGeエピタキシャル中間層の影響. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2023. 84th
  • PIEDRA-LORENZANA Jose A., KANEKO Shohei, FUKUSHIMA Takaaki, YAMANE Keisuke, FUJIKATA Junichi, ISHIKAWA Yasuhiko. Si上のGeフォトニックデバイス用のストレッサーとしての反応性スパッタリングによるAlN膜. 電子情報通信学会技術研究報告(Web). 2023. 123. 41(ED2023 1-9)
もっと見る
特許 (37件):
書籍 (6件):
  • Integrated Photonics for Data Communication Applications (Integrated Photonics: Application-Specific Design and Manufacturing)
    Elsevier 2023 ISBN:0323912249
  • 次世代高速通信に対応する光回路実装、デバイスの開発
    技術情報協会 2022
  • Photonics and Electronics with Germanium
    Wiley-VCH, Weinheim 2015
  • Silicon Photonics II (Topics in Applied Physics)
    Springer Verlag 2010
  • Optical Interconnects - The Silicon Approach
    Springer Verlag 2006
もっと見る
講演・口頭発表等 (396件):
  • Franz-Keldysh Effect in Lateral pin Photodetectors of Ge Strip on Si at C-, L-, and U-band Wavelengths
    (2024 IEEE Silicon Photonics Conference 2024)
  • 発光デバイス応用に向けたHfGe混晶の理論的検討
    (第71回応用物理学会春季学術講演会 2024)
  • Effect of Si cap layer on the lattice strain in a Ge wire structures grown on Si substrate
    (第71回応用物理学会春季学術講演会 2024)
  • 引張ひずみを増強したGe層を用いたSi上フリースペース近赤外受光器の特性評価
    (第21回赤外放射応用関連学会年会 2024)
  • 光導波路応用に向けたバルクSi上SiGe層のCVD成長
    (Photonic Device Workshop 2023 (PDW2023) 2023)
もっと見る
学歴 (1件):
  • - 1998 北海道大学
学位 (1件):
  • 博士(工学) (北海道大学)
委員歴 (39件):
  • 2023/04 - 現在 半導体の結晶成長と加工および評価に関する応物産学連携委員会 委員
  • 2019/06 - 現在 電子情報通信学会光集積及びシリコンフォトニクス特別研究専門委員会 委員
  • 2012 - 現在 電子材料シンポジウム プログラム委員
  • 2023/04 - 2025/03 応用物理学会東海支部 幹事
  • - 2024/10 246th ECS Meeting, 11th International SiGe, Ge, and Related Compounds: Materials, Processing, and Devices Symposium, Optoelectronics Committee, Program Committee Member
全件表示
所属学会 (6件):
The Electrochemical Society ,  SPIE ,  IEEE ,  電子情報通信学会 ,  応用物理学会 ,  米国材料学会
※ J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。 登録・更新については、こちらをご覧ください。

前のページに戻る