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J-GLOBAL ID：201402202958182191   整理番号：14A0114173

ポリイミドフィルムの表面電荷蓄積と減衰へのフッ素化の効果

Effects of Fluorination on Surface Charge Accumulation and Decay of Polyimide Film

著者 (3件)： DU Boxue (Tianjin Univ., Tianjin, CHN) ,  LI Jie (Tianjin Univ., Tianjin, CHN) ,  DU Heng (Tianjin Univ., Tianjin, CHN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 52  号： 12  ページ： 120201.1-120201.4  発行年： 2013年12月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,フッ素化ポリイミドフィルムの表面電荷の蓄積と減衰挙動に及ぼすフッ素化時間の影響を明らかにすることを目的とした研究を紹介する。試料は15,30,45,および60分間0.05MPaにおいて,体積分量20%のF₂を含むF₂/N₂混合物を使用して約328Kで実験容器内で表面フッ素化した。相対湿度およそ40%の室温でにコロナ帯電試験を実施した。試料のフッ素化層の化学組成を観察した。結果は,電荷密度及び電荷減衰率が顕著にフッ素化により影響を受け,かつ,そのフッ素化の程度は処理時間によって影響されること,を示している。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ポリイミド ,  *フッ素化 ,  *高分子膜 ,  *表面電荷 ,  *帯電 ,  減衰 ,  時間依存性 ,  混合気体 ,  窒素 ,  フッ素 ,  相対湿度 ,  化学組成 ,  *加工時間
準シソーラス用語： 電荷蓄積 ,  *コロナ帯電 ,  処理時間

分類 (2件)： 気体放電  (BJ03020T) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

引用文献 (21件)：

• L. R. Zhou, G. N. Wu, B. Gao, K. Zhou, J. Liu, K. J. Cao, and L. J. Zhou:IEEE Trans. Dielectr. Electr. Insul. 16 (2009) 1143.
• D. Fabiani, G. C. Montanari, A. Cavallini, and G. Mazzanti:IEEE Trans. Dielectr. Electr. Insul. 11 (2004) 393.
• M. Kaufhold, H. Aninger, M. Berth, J. Speck, and M. Eberhardt:IEEE Trans. Ind. Electron. 47 (2000) 396.
• B. X. Du, J. W. Zhang, and Y. Gao:IEEE Trans. Dielectr. Electr. Insul. 19 (2012) 755.
• H. Hama, T. Hikosaka, S. Okabe, and H. Okubo: IEEE Trans. Dielectr. Electr. Insul. 14 (2007) 508.

タイトルに関連する用語 (4件)： ポリイミドフィルム ,  電荷蓄積 ,  減衰 ,  フッ素化