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J-GLOBAL ID：201402204056551120   整理番号：14A0297123

ウエハ製造レチクル再認定での自動欠陥分類(ADC)と進捗モニタリング(DPM)

Automated Defect Classification (ADC) and Progression Monitoring (DPM) in Wafer Fab Reticle Requalification

著者 (14件)： YEN T. H. (Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd., Tainan, TWN) ,  LAI Rick (Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd., Tainan, TWN) ,  TUO Laurent C. (Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd., Tainan, TWN) ,  TOLANI Vikram (Luminescent Technol., Inc., CA) ,  CHEN Dongxue (Luminescent Technol., Inc., CA) ,  HU Peter (Luminescent Technol., Inc., CA) ,  YU Jiao (Luminescent Technol., Inc., CA) ,  HWA George (Luminescent Technol., Inc., CA) ,  ZHENG Yan (Luminescent Technol., Inc., CA) ,  LAKKAPRAGADA Suresh (Luminescent Technol., Inc., CA) ,  WANG Kechang (Luminescent Technol., Inc., CA) ,  PENG Danping (Luminescent Technol., Inc., CA) ,  WANG Bill (Luminescent Technol., Inc., TWN) ,  CHIANG Kaiming (Luminescent Technol., Inc., TWN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8880  ページ： 88800A.1-88800A.13  発行年： 2013年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フォトリソグラフィー用のマスクパターンの解像度の向上によりマスク欠陥の検出法が重要となってきた。マスク欠陥の目視検査法では,解像度や検査速度の向上が望めないため,機械的な方法について検討した。45nmのウエハプロセスにおいて,レチクルの再認定のための自動欠陥分類(ADC)と進捗モニタリング(DPM)について検討した。目視検査工程を自動化するための流れ図を示し,ADC法を説明した。次に,ADCを補修部分や汚染欠陥などに適用して,この効果を調べた。ウエハ製造工程でのレチクルの検査にADCとDPMを利用したときの結果を示した。ADCやDPMを利用することで,マスク欠陥を数秒で正確に分類できることが分かった。

シソーラス用語： フォトリソグラフィー ,  監視 ,  *レチクル ,  肉眼検査 ,  *ウエハ【IC】 ,  自動分類 ,  *加工欠陥 ,  パターン形成 ,  分解能 ,  工程管理 ,  検出法
準シソーラス用語： *フォトマスク欠陥 ,  マスクパターン ,  進捗管理

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： ウエハ製造 ,  レチクル ,  認定 ,  欠陥分類 ,  ADC ,  モニタリング ,  dpm