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J-GLOBAL ID：201402212909437856   整理番号：14A0720428

高規則性ナノ相分離界面をテンプレートとしたレニウム錯体の位置選択的集積法の開発

著者 (4件)： 谷尾吉祥 (京都工繊大 大学院) ,  大隣雅俊 (京都工繊大 大学院) ,  浅岡定幸 (京都工繊大 大学院) ,  浅岡定幸 (JST-さきがけ)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 63  号： 1  ページ： ROMBUNNO.1PD078  発行年： 2014年05月09日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリエチレンオキシド ,  *ポリメタクリル酸エステル ,  *オレフィン化合物 ,  *フェノールエーテル ,  *カルボン酸エステル ,  *窒素複素環化合物 ,  *ジブロック共重合体 ,  原子移動ラジカル重合 ,  化学合成 ,  両親媒性高分子 ,  高分子液晶 ,  *レニウム錯体 ,  カルボニル錯体 ,  錯体生成 ,  ゲル浸透クロマトグラフィー ,  紫外可視吸収スペクトル ,  MLCT遷移 ,  示差走査熱量測定 ,  凝固点 ,  *亜鉛錯体 ,  *ポルフィリン錯体 ,  スピンコーティング ,  高分子薄膜 ,  熱処理 ,  原子間力顕微鏡 ,  *ミクロ相分離 ,  界面 ,  *ミクロドメイン ,  *集積 ,  位置秩序 ,  リンカ ,  クリック化学
準シソーラス用語： クリック反応

分類 (3件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (4件)： 2,2′-ビピリジン-4,4′-ジカルボン酸 ,  5,15-ビス(3,5-ジ-tert-ブチルフェニル)-10-[4-[[1-[2-(メタクリロイルオキシ)エチル]-1H-1,2,3-トリアゾール-4-イルメトキシ]カルボニル]フェニル]-20-(4-カルボキシフェニル)-21H,23H-ポルフィリン ,  メタクリル酸11-[4-[2-(4-ブチルフェニル)エテニル]フェノキシ]ウンデシル ,  2,2′-ビピリジン-4,4′-ジカルボン酸4-[1-[2-(メタクリロイルオキシ)エチル]-1H-1,2,3-トリアゾール-4-イル]メチル

タイトルに関連する用語 (8件)： 規則性 ,  ナノ相分離 ,  界面 ,  テンプレート ,  レニウム錯体 ,  位置選択 ,  集積 ,  開発