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J-GLOBAL ID：201402220599404530   整理番号：14A0718194

マルチプラズマイオンプレーティングに向けたデュアルZnO透明導電膜合成装置の開発

Development of the dual reactor to synthesize ZnO transparent conductive film for the multi-plasma ion plating

著者 (4件)： 佐藤直幸 (茨城大) ,  大木浩 (ビームトロン) ,  根矢和次 (ビームトロン) ,  佐藤達志 (ビームトロン)
資料名： 電気学会プラズマ研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： PST-14  号： 1-18  ページ： 53-58  発行年： 2014年05月09日 
JST資料番号： Z0951A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： これまで精力的に開発が進められてきたITOに替わる,より広い波長範囲で透明性が高く,電気抵抗の低い量産可能で安価・安全な透明導電性薄膜の開発が求められている。そこで,Zn-O₂混合プラズマ中で,イオンプレーティングによりZnO透明導電性薄膜を製作した。プラズマ源には低ガス圧,低電力でプラズマを生成・維持可能なVHF励起放電を採用した。しかしシート抵抗のばらつきが大きく,再現性が乏しい。そこでその原因を究明するため,同一のリアクタを同一条件で稼働し,合成膜の特性と混合プラズマ特性の相関がその場比較可能な装置の開発を進めている。その開発状況とこれまでの成果を報告する。一方のリアクタでは,30mm角の正方形で,厚さ1mmのパイレクス基板上に,連続で2枚成膜できるようになった。今後同一の構造のリアクタを製作し,同一条件で薄膜合成を行い,膜特性を比較・制御する予定である。

シソーラス用語： *プラズマ装置 ,  イオンめっき ,  *酸化亜鉛
準シソーラス用語： *ZnO ,  ZnO透明導電膜 ,  *プラズマイオンプレーティング ,  *成膜装置

分類 (3件)： プラズマ装置  (BJ02082I) ,  プラズマ応用  (BJ02110K) ,  プラズマ生成・加熱  (BJ02060E)

引用文献 (38件)：

• I. Hamberg and C.G. Granqvist: "Evaporated Sn-doped In₂O₃ films: Basic optical properties and applications to energy-efficient windows", J. Appl. Phys. 60, R123 (1986). http://dx.doi.org/10.1063/1.337534(38pages).
• 馬来国弼 他:「透明導電膜の技術」オーム社(2007).
• C.G. Granqvist and A. Hultaker: "Transparent and conducting ITO films: new developments and applications", Thin Solid Films 411, pp.1-5 (2002).
• 革新的太陽光発電技術研究開発-中間評価説明資料(2010). http://www.nedo.go.jp/content/100095821.pdf.
• 佐藤直幸他:「多接合太陽電池向けフルスペクトルZnO透明導電膜の低気圧高周波プラズマ合成」電気学会プラズマ研究会資料 PST-11-002,pp.3-8(2011).

タイトルに関連する用語 (4件)： デュアル ,  ZnO ,  透明導電膜 ,  開発