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J-GLOBAL ID：201402221455268182   整理番号：14A1290654

REBL DPG:最新のイノベーションおよび残された挑戦課題

The REBL DPG: Recent Innovations and Remaining Challenges

著者 (13件)： CARROLL Allen (KLA-Tencor Corp., USA) ,  GRELLA Luca (KLA-Tencor Corp., USA) ,  MURRAY Kirk (KLA-Tencor Corp., USA) ,  MCCORD Mark A. (KLA-Tencor Corp., USA) ,  PETRIC Paul (KLA-Tencor Corp., USA) ,  TONG William M. (KLA-Tencor Corp., USA) ,  BEVIS Christopher F. (KLA-Tencor Corp., USA) ,  LIN Shy-Jay (Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd., TWN) ,  YU Tsung-Hsin (Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd., TWN) ,  HUANG Tze-Chiang (Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd., TWN) ,  WANG T.P. (Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd., TWN) ,  WANG Wen-Chuan (Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd., TWN) ,  SHIN J.J. (Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd., TWN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9049  ページ： 904917.1-904917.9  発行年： 2014年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では電子ビーム上にパターン情報を刻印するために新しいデバイスを採用しているREBL(反射型電子ビームリソグラフィー) DPG(ディジタルパターンジェネレータ)を取り上げ,最新のイノベーションおよび残された挑戦課題についての議論を行った。DPGの設計トレードオフとして,チップ複雑性および歩留りの比較,製造技術および信頼性&寿命の比較,製造技術およびIP(知的所有権)のアベイラビリティの比較,シフトレジスタ装置セルサイズおよびミラー電圧振動の比較,スループットおよび電子光制約の比較,などについて論じた。DPG3におけるイノベーションとして,双方向シフティング,ミラーアレイ寸法,データ入力,キャリブレーション能力,ブロック図,データ圧縮,ビットブロック計画,検証について詳細な議論を行った。

シソーラス用語： *電子ビームリソグラフィー ,  *パターン形成 ,  *CMOS構造 ,  走査電子顕微鏡 ,  顕微鏡写真 ,  トレードオフ ,  技術革新 ,  キャリブレーション ,  データ圧縮 ,  ブロック計画
準シソーラス用語： イノベーション ,  *パターンジェネレータ ,  直接描画

分類 (3件)： X線技術  (BA02060D) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  半導体集積回路  (NC03162T)

タイトルに関連する用語 (1件)： イノベーション