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J-GLOBAL ID：201402227139350118   整理番号：14A1121842

顕微鏡的なパターン構造におけるドライエッチングプロセスの間の本質的な応力によって誘起された波打ちの発現

Onset of Wiggling in a Microscopic Patterned Structure Induced by Intrinsic Stress During the Dry Etching Process

著者 (4件)： TANAKA Hiro (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  HIDAKA Takahiro (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  IZUMI Satoshi (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  SAKAI Shinsuke (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名： Journal of Applied Mechanics  (Journal of Applied Mechanics)
巻： 81  号： 9  ページ： 091009.1-091009.8  発行年： 2014年09月 
JST資料番号： C0660A  ISSN： 0021-8936  CODEN： JAMCAV  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 半導体デバイスでは,生来の圧縮応力の理由から,微細パターニングが構造的不安定の原因となり得る。この研究では,著者らはマスク-誘電体隆線を有するパターン構造の寸法コントロールの質を,構造的不安定性を低減し,プロセスの信頼性を改善しながら良くすることを目標とする。生来の応力およびチャンバー条件に関係する多くのパラメータが製造の間の隆線波打ちに強く寄与しているが,簡素な連続体アプローチが波打ちの機械的側面を明らかにした。著者らの簡素な連続体アプローチは,隆線波打ちの分岐閾値をコントロールするために無次元パラメータを用いる。エッチングプロセスのモデリングと組み合わせて,著者らのアプローチは,実験データと良く一致する座屈の発現を明らかにする。

シソーラス用語： 製造 ,  *ドライエッチング ,  応力 ,  パターン形成 ,  *揺れ ,  座屈 ,  閾値
準シソーラス用語： *パターンニング ,  半導体デバイスの製造

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 顕微鏡 ,  ドライエッチングプロセス ,  応力 ,  誘起 ,  発現