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J-GLOBAL ID：201402227322102387   整理番号：14A1107433

Si-Geにおける過冷却融液からの凝固

著者 (4件)： 根岸茂利 (芝浦工大) ,  永山勝久 (芝浦工大) ,  稲富裕光 (ISAS/JAXA) ,  栗林一彦 (ISAS/JAXA)
資料名： 日本金属学会講演概要(CD-ROM)  (Collected Abstracts of Spring Meeting of the Japan Institute Metals and Materials (CD-ROM))
巻： 155th  ページ： ROMBUNNO.P96  発行年： 2014年09月10日 
JST資料番号： S0988B  ISSN： 2433-3093  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *結晶成長 ,  *ケイ素 ,  添加物効果 ,  ゲルマニウム ,  浮遊融解 ,  浮遊 ,  *微細構造 ,  *凝固組織 ,  その場観察 ,  高速度カメラ ,  成長速度 ,  不純物 ,  双晶 ,  電磁浮遊 ,  サブクール度
準シソーラス用語： 微細組織 ,  過冷度

分類 (1件)： 半導体の結晶成長  (BK13040X)

タイトルに関連する用語 (5件)： Si ,  Ge ,  過冷却 ,  融液 ,  凝固