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J-GLOBAL ID：201402227684350915   整理番号：14A0660755

マイクロストリッププローブを用いた磁性薄膜の透磁率測定

Permeability Measurements of Magnetic Thin Film with Microstrip Probe

著者 (6件)： KIMURA T. (Tohoku Gakuin Univ.) ,  YABUKAMI S. (Tohoku Gakuin Univ.) ,  OZAWA T. (Tohoku Gakuin Univ.) ,  MIYAZAWA Y. (Toei Scientific Industrial Co. Ltd) ,  KENJU H. (Toei Scientific Industrial Co. Ltd) ,  SHIMADA Y. (Graduate School of Engineering, Tohoku Univ.)
資料名： Journal of the Magnetics Society of Japan  (Journal of the Magnetics Society of Japan)
巻： 38  号： 3-1  ページ： 87-91 (J-STAGE)  発行年： 2014年 
JST資料番号： Z0944A  ISSN： 1882-2924  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 表皮効果に因る高周波インピーダンスの変化に基づき,サンプル寸法の制限が無い薄膜透磁率を得る高感度及び広帯域手法を開発した。50Ωでインピーダンス整合させたマイクロストリッププローブを作製し,磁性薄膜近傍に設置し,Newton-Raphson法により透磁率を最適化した。透磁率計を用いてCoFeB膜(45mm×25mm×0.5μm厚)及びFeCoB/Ru膜(50mm×40mm×0.2μm厚)の透磁率を評価した。測定値は,Landau-Lifshitz-Gilbert方程式と30GHz迄の渦電流発生に基づく理論値に大略一致した。提案の手法は寸法に制限されないので,並んだウエハサイズの試料の透磁率の測定に有望である。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *磁性薄膜 ,  *透磁率測定 ,  マイクロストリップ線路 ,  プローブ ,  高感度 ,  広帯域 ,  Newton-Raphson法 ,  最適化 ,  コバルト化合物 ,  鉄化合物 ,  ホウ素化合物 ,  渦電流 ,  解析 ,  積層構造 ,  素子構造 ,  強磁性共鳴 ,  スパッタリング ,  ルテニウム化合物 ,  Landau-Lifshitz方程式
準シソーラス用語： 理論解析

分類 (1件)： 磁性材料  (NA04040H)

引用文献 (8件)：

• 1) P. A. Calcagno, D. A. Thompson: Rev. Sci. Instrum., 46, 904 (1975).
• 2) M. Yamaguchi, S. Yabukami and K.I. Arai: IEEE Trans. Magn., 32, 4941 (1996).
• 3) H. B. Weir: Proc IEEE., 62, 33 (1975).
• 4) A. Sato, S. Yabukami, T. Ozawa, Y. Miyazawa, K. Yanagi, Y. Shimada, M. Munakata, and T. Shiokawa: J. Magn. Soc. Jpn., 36, 235 (2012).
• 5) W.H. Press, S.A. Teukolsky, W.T. Vetterling and B.P. Flannery: Numerical Recipes in C (Japanese Edition)., pp.251-281, ( Gijutsu Hyoron sha ,Tokyo,1993).

タイトルに関連する用語 (2件)： 磁性薄膜 ,  透磁率測定