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J-GLOBAL ID：201402230317417346   整理番号：14A0426434

スパッタリング法で堆積したAlドープCeO₂膜の酸素導入効果

EFFECT OF O₂ INTRODUCTION PROPERTY OF Al DOPED CeO₂ FILMS DEPOSITED BY SPUTTERING METHOD

著者 (8件)： HARA K. (Hosei Univ., Tokyo, JPN) ,  OKAZAKI T. (Hosei Univ., Tokyo, JPN) ,  NOTANI Y. (Hosei Univ., Tokyo, JPN) ,  OSAWA T. (Hosei Univ., Tokyo, JPN) ,  HIBINO K. (Hosei Univ., Tokyo, JPN) ,  SUZUKI S. (Comet Inc., Ibaraki, JPN) ,  ISHIBASHI K. (Comet Inc., Ibaraki, JPN) ,  YAMAMOTO Y. (Hosei Univ., Tokyo, JPN)
資料名： Report of Research Center of Ion Beam Technology, Hosei University. Supplement  (Report of Research Center of Ion Beam Technology, Hosei University. Supplement)
号： 32  ページ： 46-51  発行年： 2014年03月 
JST資料番号： L0263A  ISSN： 0914-2908  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： AlドープCeO₂膜での酸素欠乏を補償するために,スパッタ堆積中に酸素を導入した。スパッタリング気体中の酸素の割合が増加しても,堆積速度と膜の原子組成は影響を受けなかったが,分子組成は影響を受けた。TEDとXRD測定による観測から,酸素導入によって膜が結晶化することが分かった。XPSとXRD測定により,Alが存在することでCeO₂がCe₂O₃を通してCeAlO₃になることを明らかにした。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 堆積速度 ,  結晶化 ,  酸素欠乏 ,  *スパッタ蒸着 ,  薄膜 ,  X線光電子スペクトル ,  アルミニウム ,  ドーピング ,  酸化膜 ,  酸化セリウム ,  電子回折 ,  X線回折 ,  電子顕微鏡観察 ,  酸素
準シソーラス用語： スパッタリング蒸着 ,  *二酸化セリウム ,  透過型電子顕微鏡法

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： スパッタリング法 ,  堆積 ,  Al ,  ドープ ,  酸素 ,  導入効果