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J-GLOBAL ID：201402233082290733   整理番号：14A0297134

汚染とヘイズ検査のための計算マスク欠陥レビュー

Computational Mask Defect Review for Contamination and Haze Inspections

著者 (11件)： MORGAN Paul (MP Mask Technol. Center, LLC, ID) ,  ROST Daniel (MP Mask Technol. Center, LLC, ID) ,  PRICE Daniel (MP Mask Technol. Center, LLC, ID) ,  CORCORAN Noel (Luminescent Technol., Inc., CA) ,  SATAKE Masaki (Luminescent Technol., Inc., CA) ,  HU Peter (Luminescent Technol., Inc., CA) ,  PENG Danping (Luminescent Technol., Inc., CA) ,  YONENAGA Dean (Luminescent Technol., Inc., CA) ,  TOLANI Vikram (Luminescent Technol., Inc., CA) ,  WOLF Yulian (Applied Materials, Inc., ISR) ,  SHAH Pinkesh (Applied Materials, Inc., ISR)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8880  ページ： 88800L.1-88800L.7  発行年： 2013年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 欠陥レビューの計算による方法をダイツーダイ反射,非ダイツーダイ,シングルダイ検査を含む汚染スタイルの欠陥検査に拡張した。透過空間像に使う計算法に加えて,ダイツーダイ反射光モードで検出した欠陥を反射光の特別欠陥と背景発色に基づいて解析した。非ダイツーダイで検出した欠陥に対しては検査装置からの欠陥画像だけが使用可能である。参照無しには問題とする欠陥の真の性質または影響を求められない。検査装置モデリングと画像反転技術の組み合わせを使ってLuminescent社のLAIPHシステムは正確な参照画像を生成し,あたかも画像がダイツーダイ検査で得られたかのように自動欠陥調査を進める。このような汚染型欠陥の処理は,マニュアルでレビューするかAIMSで測定するしかない疑似または有害欠陥を90%以上フィルタ-除去する。

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  *検査 ,  高分解能 ,  加工欠陥 ,  フォトマスク ,  欠陥検査 ,  画像 ,  光 ,  補正 ,  超小形回路技術 ,  *汚染
準シソーラス用語： RET ,  *マスク欠陥 ,  マスク誤差増強因子 ,  ヘイズ ,  汚染検査 ,  逆リソグラフィー ,  近接効果補正 ,  空間像 ,  計算リソグラフィー ,  検査装置 ,  高解像度 ,  反射光

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 汚染 ,  ヘイズ ,  検査 ,  計算 ,  マスク欠陥 ,  レビュー