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J-GLOBAL ID：201402233467900052   整理番号：14A0610469

磁気光学分光により調べた分子ビームエピタキシー成長Pt/Co/Pt薄膜のGa⁺照射効果

Effect of Ga⁺ irradiation in molecular-beam epitaxy grown Pt/Co/Pt thin films studied by magneto-optic spectroscopy

著者 (9件)： JAKUBISOVA-LISKOVA E. (Fac. of Mathematics and Physics, Charles Univ., Ke Karlovu 3, 12116 Prague, CZE) ,  VISNOVSKY S. (Fac. of Mathematics and Physics, Charles Univ., Ke Karlovu 3, 12116 Prague, CZE) ,  WAWRO A. (Inst. of Physics, Polish Acad. of Sciences, Al. Lotnikow 32/46, 02-668 Warszawa, POL) ,  BACZEWSKI L. T. (Inst. of Physics, Polish Acad. of Sciences, Al. Lotnikow 32/46, 02-668 Warszawa, POL) ,  MAZALSKI P. (Univ. of Bialystok, ul. Lipowa 41, 15-424 Bialystok, POL) ,  MAZIEWSKI A. (Univ. of Bialystok, ul. Lipowa 41, 15-424 Bialystok, POL) ,  LIEDKE M. O. (Inst. of Radiation Physics, Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Postfach 510119, 01314 Dresden, DEU) ,  MCCORD J. (Inst. for Materials Sci., Kiel Univ., Kaiserstr. 2, 24143 Kiel, DEU) ,  FASSBENDER J. (Inst. of Ion Beam Physics and Material Res., Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Postfach 510119, 01314 Dresden, DEU)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 115  号： 17  ページ： 17C106-17C106-3  発行年： 2014年05月07日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *白金 ,  *コバルト ,  *多層膜 ,  磁性薄膜 ,  *MBE成長 ,  深さプロフィル ,  *磁気光学効果 ,  界面 ,  フルエンス ,  濃度分布 ,  浸食 ,  合金化 ,  *イオン照射 ,  金属イオン
準シソーラス用語： イオンフルエンス ,  ガリウムイオン ,  *磁気光学的Kerr効果

分類 (3件)： 金属の放射線による構造と物性の変化  (BK16122N) ,  電気光学効果,磁気光学効果  (BM08020L) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (7件)： 磁気光学 ,  分光 ,  分子ビームエピタキシー成長 ,  Pt ,  CO ,  薄膜 ,  照射効果