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J-GLOBAL ID：201402235803028000   整理番号：14A1100513

新規原料分子を用いたグラフェン及び窒素ドープグラフェンの成長

著者 (6件)： 加藤時穂 (東大 大学院) ,  今村岳 (東大 大学院) ,  小幡誠司 (東大 大学院) ,  BHANUCHANDRA Malli (京大 大学院) ,  依光英樹 (京大 大学院) ,  斉木幸一朗 (東大 大学院)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 75th  ページ： ROMBUNNO.19P-B3-14  発行年： 2014年09月01日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *炭素材 ,  *窒素 ,  *ドーピング ,  化学蒸着 ,  *窒素複素環化合物 ,  共役 ,  白金 ,  単結晶 ,  基板 ,  X線光電子スペクトル ,  Ramanスペクトル ,  低速電子回折 ,  薄膜成長 ,  *グラフェン ,  π共役

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  その他の無機化合物の格子欠陥  (BK12050B)

物質索引 (2件)： 4,4,8,8,12,12-ヘキサメチル-4H,8H,12H-ベンゾ[1,9]キノリジノ[3,4,5,6,7-defg]アクリジン ,  4H,8H,12H-ベンゾ[1,9]キノリジノ[3,4,5,6,7-defg]アクリジン-4,8,12-トリオン

タイトルに関連する用語 (5件)： 原料 ,  分子 ,  グラフェン ,  窒素ドープ ,  成長