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J-GLOBAL ID:201402237762593337   整理番号:14A0994524

低いウエハ性能の起因および産業用モノライクシリコンインゴットのシードキャスト成長における結晶欠陥生成について

About the origin of low wafer performance and crystal defect generation on seed-cast growth of industrial mono-like silicon ingots
著者 (10件):
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巻: 22  号:ページ: 923-932  発行年: 2014年08月 
JST資料番号: W0463A  ISSN: 1062-7995  CODEN: PPHOED  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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シードキャスト成長法により作製されるモノライク(擬似単結晶)シリコンは太陽電池の発電効率を低コストで改善できる電池材料として期待されているが,シードキャストプロセスで惹起される結晶欠陥によりその性能は著しく抑制されてしまう。本研究ではモノライクシリコンインゴットを産業用規模で製作し,その結晶欠陥を種々の光学的測定法によりキャラクタライズして,ウエハ性能を劣化させる結晶欠陥の種類を明らかにした。さらに,本研究結果に基づき,産業用モノライクシリコンインゴットおよび高性能ウエハの製作に関する技術指針を示した。
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分類 (2件):
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固体デバイス材料  ,  半導体の結晶成長 

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