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J-GLOBAL ID：201402242310786859   整理番号：14A0899283

層状ケイ酸塩RUB-51のSiCl₄によるシリル化およびシリル化誘導体の結晶性微細孔物質への変換

Silylation of Layered Silicate RUB-51 with SiCl₄ and Conversion of the Silylated Derivative to a Crystalline Microporous Material

著者 (4件)： ASAKURA Yusuke (Waseda Univ., Tokyo, JPN) ,  SAKAMOTO Yasuhiro (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  SAKAMOTO Yasuhiro (JST-PRESTO, Saitama, JPN) ,  KURODA Kazuyuki (Waseda Univ., Tokyo, JPN)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 26  号： 12  ページ： 3796-3803  発行年： 2014年06月24日 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： RUB-51層状ケイ酸塩(Si₁₂O₂₄(OH)₄[C₆H₅CH₂N(CH₃)₃]₄を水熱合成法により製造した。SiCl₄によりシリル化,加水分解,熱処理による構造変化をX線回折,²⁹Si MASNMR,走査電子顕微鏡,FTIR,熱重量分析により検討した。界面の隣接OHとO^-がシリルジクロリドにより架橋され,その加水分解により生成したgemジオールがアニーリングにより層間共有結合を作り,a軸方向に半周期ずれた新しい多孔質体(A)が生成した。Aは二酸化炭素の吸着量がメタンより大きく,ガス分離への応用を示唆した。

シソーラス用語： *ケイ酸塩 ,  *塩化ケイ素 ,  水熱合成 ,  *シリル化 ,  *加水分解 ,  *熱処理 ,  ケイ素29NMR ,  X線回折 ,  MASNMR ,  走査電子顕微鏡 ,  赤外吸収スペクトル ,  熱重量分析 ,  アニーリング【現象】 ,  *多孔質体 ,  二酸化炭素 ,  吸着 ,  *ガス分離 ,  アルカン ,  FTIRスペクトル ,  層状ケイ酸塩

分類 (4件)： その他の無触媒反応  (CB06070U) ,  固-気界面一般  (CB12041H) ,  吸着剤  (YB03000W) ,  吸着,イオン交換  (XD02060I)

物質索引 (2件)： メタン ,  ベンジルトリメチルアミニウム

タイトルに関連する用語 (7件)： 層状ケイ酸塩 ,  SiCl4 ,  シリル化 ,  誘導体 ,  結晶性 ,  微細孔 ,  物質