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J-GLOBAL ID：201402248193952112   整理番号：14A0056543

化学量論的SiO₂相を持つCo-Pt-Cr-SiO₂グラニュラ薄膜の低アルゴンガス圧蒸着のためのCo-Pt-Cr-CoSi-CoO焼結ターゲット

Co-Pt-Cr-CoSi-CoO Sintered Target for Low Ar-gas-pressure Deposition of CoPtCr-SiO₂ Granular Film with Stoichiometric SiO₂ Phase

著者 (3件)： SASAKI Shingo (Ichinoseki National Coll. Technol., Iwate, JPN) ,  SAITO Shin (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  TAKAHASHI Migaku (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名： IEEE Transactions on Magnetics  (IEEE Transactions on Magnetics)
巻： 49  号： 12  ページ： 5603-5609  発行年： 2013年12月 
JST資料番号： A0339B  ISSN： 0018-9464  CODEN： IEMGAQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 酸化ケイ素 ,  化学量論 ,  *薄膜 ,  *磁性薄膜 ,  コバルト合金 ,  白金合金 ,  クロム合金 ,  混合物 ,  *焼結体 ,  コバルト化合物 ,  白金化合物 ,  クロム化合物 ,  酸化コバルト ,  磁気記録 ,  *磁気記録材料
準シソーラス用語： *グラニュラ薄膜 ,  ガス蒸着 ,  ケイ化コバルト

分類 (1件)： 電子・磁気・光学記録  (NC06020F)

タイトルに関連する用語 (10件)： SiO2 ,  CO ,  Pt ,  Cr ,  グラニュラ薄膜 ,  アルゴン ,  ガス圧 ,  蒸着 ,  焼結 ,  ターゲット