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J-GLOBAL ID：201402249249236560   整理番号：14A0796982

周波数変調原子間力顕微鏡を使ったイオン液体中に浸漬したルブレン単結晶の清浄な表面処理

Clean surface processing of rubrene single crystal immersed in ionic liquid by using frequency modulation atomic force microscopy

著者 (8件)： YOKOTA Yasuyuki (Dep. of Materials Engineering Sci., Graduate School of Engineering Sci., Osaka Univ., 1-3 Machikaneyama, Toyonaka ...) ,  HARA Hisaya (Dep. of Materials Engineering Sci., Graduate School of Engineering Sci., Osaka Univ., 1-3 Machikaneyama, Toyonaka ...) ,  MORINO Yusuke (Dep. of Materials Engineering Sci., Graduate School of Engineering Sci., Osaka Univ., 1-3 Machikaneyama, Toyonaka ...) ,  BANDO Ken-ichi (Dep. of Materials Engineering Sci., Graduate School of Engineering Sci., Osaka Univ., 1-3 Machikaneyama, Toyonaka ...) ,  IMANISHI Akihito (Dep. of Materials Engineering Sci., Graduate School of Engineering Sci., Osaka Univ., 1-3 Machikaneyama, Toyonaka ...) ,  UEMURA Takafumi (Dep. of Advanced Materials Sci., Graduate School of Frontier Sci., The Univ. of Tokyo, 5-1-5 Kashiwa, Chiba 277-8561 ...) ,  TAKEYA Jun (Dep. of Advanced Materials Sci., Graduate School of Frontier Sci., The Univ. of Tokyo, 5-1-5 Kashiwa, Chiba 277-8561 ...) ,  FUKUI Ken-ichi (Dep. of Materials Engineering Sci., Graduate School of Engineering Sci., Osaka Univ., 1-3 Machikaneyama, Toyonaka ...)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 104  号： 26  ページ： 263102-263102-4  発行年： 2014年06月30日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 原子間力顕微鏡 ,  *イオン液体 ,  *表面処理 ,  電気二重層 ,  FET【トランジスタ】 ,  絶縁膜 ,  誘電体薄膜 ,  溶解 ,  浄化 ,  ゲート絶縁膜
準シソーラス用語： *周波数変調原子間力顕微鏡 ,  *有機FET ,  ゲート誘電体 ,  清浄化

分類 (1件)： 固体の表面構造一般  (BK15010E)

物質索引 (1件)： ルブレン

タイトルに関連する用語 (7件)： 周波数変調原子間力顕微鏡 ,  イオン ,  液体中 ,  浸漬 ,  ルブレン ,  単結晶 ,  表面処理