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J-GLOBAL ID：201402249664999218   整理番号：14A0231222

2-(N,N-ビストリメチルシリルアミノメチル)-1,3-ブタジエンおよび2-(4-(N,N-ビストリメチルシリルアミノ)ブチル)-1,3-ブタジエンのアニオン重合

Anionic polymerization of 2-(N,N-bistrimethylsilylaminomethyl)-1,3-butadiene and 2-(4-(N,N-bistrimethylsilylamino)butyl)-1,3-butadiene

著者 (5件)： TAKENAKA Katsuhiko (Dep. of Materials Sci. and Technol., Nagaoka Univ. of Technol.) ,  NAKASHIMA Daiki (Dep. of Materials Sci. and Technol., Nagaoka Univ. of Technol.) ,  MIYA Masamitsu (Dep. of Materials Sci. and Technol., Nagaoka Univ. of Technol.) ,  TAKESHITA Hiroki (Dep. of Materials Sci. and Technol., Nagaoka Univ. of Technol.) ,  SHIOMI Tomoo (Dep. of Materials Sci. and Technol., Nagaoka Univ. of Technol.)
資料名： e-Journal of Soft Materials (Web)  (e-Journal of Soft Materials (Web))
巻： 9  ページ： 14-19 (J-STAGE)  発行年： 2013年 
JST資料番号： U0038A  ISSN： 1349-7308  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： トリメチルシリル-保護1級アミノ基を含有する2つの1,3-ブタジエン誘導体である2-(N,N-ビストリメチルシリルアミノメチル)-1,3-ブタジエン(SA1Bd)および2-(4-(N,N-ビストリメチルシリルアミノ)ブチル)-1,3-ブタジエン(SA4Bd)のアニオン重合を,種々の条件下で行った。開始剤としてsec-BuLiを用い室温シクロヘキサン中でSA1Bdのアニオン重合は試みた時,重合は全く起こらなかった。おそらくビストリメチルシリルアニオンの脱離を伴うカルボアニオンの異性化により,アニオン性リビングポリスチレンを開始剤として用いた場合には,ジエニル末端基を持つポリスチレンを得た。このような副反応はSA4Bdのアニオン重合では観察されなかった。狭い分子量分布を有する予測可能な分子量の重合体をトルエン中で重合して得た。得られたポリマーのミクロ構造は,86%1,4-構造だったが,その幾何学的形状は,明確ではなかった。スチレンとのブロック共重合体も得た。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *アニオン重合 ,  基 ,  異性化 ,  脱離反応 ,  ポリスチレン ,  末端基 ,  分子量分布 ,  微細構造 ,  分子構造 ,  ブロック共重合体 ,  リビングポリマ ,  *アルカジエン ,  有機ケイ素化合物 ,  アミン ,  芳香族炭化水素 ,  ビニル化合物
準シソーラス用語： *ブタジエン誘導体 ,  保護基

分類 (1件)： 重合反応一般  (CG04010H)

物質索引 (3件)： スチレン ,  2-メチレン-N,N-ビス(トリメチルシリル)-3-ブテン-1-アミン ,  5-メチレン-N,N-ビス(トリメチルシリル)-6-ヘプテン-1-アミン

タイトルに関連する用語 (2件)： ブタジエン ,  アニオン重合