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J-GLOBAL ID:201402253784614198   整理番号:14A1280740

渦Arプラズマ渦ジェットを使用した大気TPCVDによる光触媒酸化チタン膜の堆積

Photo-catalytic titanium oxide film deposition by atmospheric TPCVD using vortex Ar plasma jet
著者 (4件):
資料名:
巻: 110  ページ: 190-195  発行年: 2014年12月 
JST資料番号: E0347A  ISSN: 0042-207X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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渦プラズマジェットを発生させるために渦流生成ノズル(渦ノズル)をプラズマトーチの先端に装備した。その結果,渦ノズルの装備によりプラズマトーチランから解放されたプラズマジェットは渦ノズルの内壁に沿って走り,渦ノズル中で渦プラズマジェットに変化した。酸化チタン膜堆積に関して,一様な厚さ分布をもつアナターゼの豊富な酸化チタン膜が304ステンレス鋼基板上に得られた。堆積距離30mmのときの中心における膜の堆積速度は約8μm/分であった。さらに,アナターゼに富んだ膜は親水性を示し,膜上のメチレンブルーの液滴はメチレンブルーの濡れ性及び脱色試験の場合UV照射により脱色されたからアナターゼに富んだ膜は光触媒特性をもつことが分かった。特に,堆積距離30mmで堆積した膜の場合,メチレンブルーの液滴は48時間のUV照射により完全に脱色された。これらの結果から,この方法はTPCVDによる一様な膜堆積に高い可能性をもっていることが分かった。Copyright 2014 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (4件):
分類
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プラズマ流,プラズマの電磁流体力学  ,  酸化物薄膜  ,  光化学一般  ,  下水,廃水の化学的処理 
物質索引 (1件):
物質索引
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