文献

J-GLOBAL ID：201402254356691389   整理番号：14A1347456

Pd(111)およびPd3Ag(111)面でのNおよびH原子吸着とNH形成の第一原理研究

First principles study of N and H atoms adsorption and NH formation on Pd(111) and Pd3Ag(111) surfaces

著者 (7件)： CHANTARAMOLEE Bhume (Dep. of Applied Physics, Osaka Univ., Suita, Osaka 565-0871, JPN) ,  PADAMA Allan Abraham B. (Dep. of Applied Physics, Osaka Univ., Suita, Osaka 565-0871, JPN) ,  PADAMA Allan Abraham B. (Inst. of Mathematical Sciences and Physics, Coll. of Arts and Sciences, Univ. of the Philippines Los Banos, LosBanos ...) ,  KASAI Hideaki (Dep. of Applied Physics, Osaka Univ., Suita, Osaka 565-0871, JPN) ,  KASAI Hideaki (Center for Atomic and Molecular Technologies, Osaka Univ., Suita, Osaka 565-0871, JPN) ,  KASAI Hideaki (Center for Continuing Professional Dev., Osaka Univ., Suita, Osaka 565-0871, JPN) ,  BUDHI Yogi Wibisono (Dep. of Chemical Engineering, Bandung Inst. of Technol., Jl. Ganesha 10, Bandung 40132, Indonesia)
資料名： Journal of Membrane Science  (Journal of Membrane Science)
巻： 474  ページ： 57-63  発行年： 2015年01月15日 
JST資料番号： E0669A  ISSN： 0376-7388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 密度汎関数理論(DFT)に基づく第一原理計算を用いて,NおよびH原子とNH化学種の吸着に及ぼすPd₃Ag(111)面でのAg原子の存在の役割を検討した。銀原子が最近傍のうちの1つであるとき,NおよびNH化学種の吸着エネルギーは少なくとも0.50eVだけ弱められ,H対照的に,H原子の吸着エネルギーは最大でも0.15eV弱められる。局所状態密度(LDOS)プロファイルは,銀合金原子近くのNおよびNH吸着のために,誘導抗結合状態がフェルミ準位以下にシフトし,したがって,吸着エネルギーは合金化表面で弱くなることを示した。吸着したNの存在下で,最も安定なサイトでのHの吸着エネルギーも低減される。それにもかかわらず,最も安定なサイトでのH吸着エネルギーにおける低減はPd₃Ag(111)面で低くなっている。両方の面でのPd原子を横切って移動するHとのNH形成は同等の活性化障壁を示すが,Ag原子で生起するときは,その障壁は0.2~0.3eV増加する。Copyright 2014 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *共吸着 ,  第一原理 ,  密度汎関数法 ,  銀 ,  パラジウム ,  *吸着エネルギー ,  銀合金 ,  ポテンシャル障壁 ,  活性化エネルギー ,  窒素 ,  *水素 ,  パラジウム合金 ,  表面反応 ,  *金属薄膜
準シソーラス用語： 活性化障壁

分類 (1件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

タイトルに関連する用語 (6件)： Pd ,  H原子 ,  吸着 ,  Nh ,  第一原理 ,  研究