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J-GLOBAL ID：201402255731508976   整理番号：14A1084326

マグネシウムアノード酸化皮膜の生成挙動

著者 (5件)： 幅崎浩樹 (北大 大学院) ,  片岡文崇 (北大 大学院) ,  辻悦司 (北大 大学院) ,  青木芳尚 (北大 大学院) ,  永田晋二 (東北大 金属材料研)
資料名： 東北大学金属材料研究所新素材共同研究開発センター共同利用研究報告書
巻： 2013  ページ： 70-71  発行年： 2014年06月 
JST資料番号： L3700A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： Mgおよびその合金は軽量で優れた物理的,機械的特性を有し広範な応用が期待されている。Mgは腐食しやすくアノード酸化による防食被膜を形成しているが生成機構は不明な点が多い。本研究では,スパッタ法で製膜したMg膜をNH₄Fを含むエチレングリコール水電解液中でアノード酸化し評価を行った。DCマグネトロンスパッタリング法によりAl基板上にMg膜を堆積し,アノード酸化を200Vまでの10Am^-2の定電流下で行った。アノード酸化膜のXRD測定,TEM観察に加え,ラザフォード後方散乱による組成評価を行った。その結果,酸化膜は厚さ約250nmのバリヤー型のアノード酸化被膜であることが分かった。また,酸化膜組成はMgO_0.1F_1.8でフッ化物主体の被膜であることを明らかにした。

シソーラス用語： *アノード酸化 ,  酸化膜 ,  アノード ,  酸化物 ,  *マグネシウム ,  スパッタ蒸着 ,  製膜 ,  金属薄膜 ,  フッ化アンモニウム ,  電解液 ,  マグネトロンスパッタリング ,  直流 ,  アルミニウム ,  基板 ,  障壁 ,  腐食 ,  防食 ,  陽極酸化処理 ,  脂肪族アルコール ,  ジオール ,  陽極酸化皮膜 ,  直流マグネトロンスパッタリング ,  化成皮膜

分類 (2件)： 化成処理  (WC08050J) ,  防食  (WB03040M)

物質索引 (1件)： エチレングリコール

タイトルに関連する用語 (3件)： マグネシウム ,  アノード酸化皮膜 ,  挙動