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J-GLOBAL ID：201402257220359193   整理番号：14A0824228

ラジカル重合化学気相堆積で合成した幅制御サブナノメートルグラフェンナノリボン膜

Width-Controlled Sub-Nanometer Graphene Nanoribbon Films Synthesized by Radical-Polymerized Chemical Vapor Deposition

著者 (6件)： SAKAGUCHI Hiroshi (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  KAWAGOE Yoshiyasu (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  HIRANO Yoshitaka (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  IRUKA Taku (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  YANO Maki (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  NAKAE Takahiro (Ehime Univ., Ehime, JPN)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 26  号： 24  ページ： 4134-4138  発行年： 2014年06月25日 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： モノマを2段階加熱で気相重合するラジカル重合化学気相堆積(RP-CVD)法で,幅を選択可能なグラフェンナノリボン(GNR)を形成した。一段目の加熱で脱臭素化およびビラジカル形成,二段目の加熱でグラフェン化し,二段目加熱炉中にAu(111)基板を設置してGNRを堆積した。モノマとして10,10′-ジブロモ-9,9′ビアンスリル,3,9-および3,10-ジブロモペリレンおよび1,4-ビス(4-ブロモフェニル)-2,3,6,11-テトラフェニルトリフェニレンを用いた場合,各々幅がベンゼン環3個,2個および4個のGNR(ポリ(ペリアントラセン))が形成した。各GNRの特性評価および光電流スイッチングをおこなった。

シソーラス用語： *ラジカル重合 ,  *化学蒸着 ,  *ナノ構造 ,  *リボン結晶 ,  脱臭素 ,  ビラジカル ,  走査型トンネル顕微鏡 ,  表面粗さ ,  粒度分布 ,  金 ,  光吸収スペクトル ,  光電流 ,  電流電圧特性 ,  炭素材 ,  光学顕微鏡 ,  加熱炉 ,  連続炉 ,  幅 ,  グラフェン ,  *グラフェンナノリボン ,  連続加熱炉
準シソーラス用語： *化学気相堆積

分類 (3件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  無触媒気相反応  (CB06050Y) ,  単独重合  (CG04020S)

物質索引 (4件)： 3,10-ジブロモペリレン ,  3,9-ジブロモペリレン ,  10,10′-ジブロモ-9,9′-ビアントラセン ,  1,4-ビス(4-ブロモフェニル)-2,3,6,11-テトラフェニルトリフェニレン

タイトルに関連する用語 (2件)： ラジカル重合 ,  化学気相堆積