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J-GLOBAL ID：201402263256898384   整理番号：14A0442805

SiC(0001)表面上の銅インターカレーションによる単層グラフェンの作製

Fabrication of a single layer graphene by copper intercalation on a SiC(0001) surface

著者 (7件)： YAGYU Kazuma (Dep. of Electronics Engineering and Computer Sci., Fukuoka Univ., Fukuoka 814-0180, JPN) ,  TAJIRI Takayuki (Dep. of Applied Physics, Fukuoka Univ., Fukuoka 814-0180, JPN) ,  KOHNO Atsushi (Dep. of Applied Physics, Fukuoka Univ., Fukuoka 814-0180, JPN) ,  TAKAHASHI Kazutoshi (Synchrotron Light Application Center, Saga Univ., 1 Honjo, Saga 840-8502, JPN) ,  TOCHIHARA Hiroshi (Dep. of Electronics Engineering and Computer Sci., Fukuoka Univ., Fukuoka 814-0180, JPN) ,  TOMOKAGE Hajime (Dep. of Electronics Engineering and Computer Sci., Fukuoka Univ., Fukuoka 814-0180, JPN) ,  SUZUKI Takayuki (Dep. of Electronics Engineering and Computer Sci., Fukuoka Univ., Fukuoka 814-0180, JPN)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 104  号： 5  ページ： 053115-053115-4  発行年： 2014年02月03日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *炭化ケイ素 ,  炭素材 ,  *インターカレーション ,  熱処理 ,  超格子 ,  干渉縞 ,  銅 ,  N型半導体 ,  走査型トンネル顕微鏡 ,  *バンド構造 ,  *X線光電子スペクトル ,  角度分解分光法 ,  光電子分光法 ,  ドーピング ,  *単層グラフェン ,  熱アニーリング ,  ARPES ,  n型ドーピング
準シソーラス用語： モアレ縞 ,  N型ドーピング

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： SiC ,  銅 ,  インターカレーション ,  単層グラフェン ,  作製