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J-GLOBAL ID：201402263699443037   整理番号：14A0187498

フェニルトリエトキシシランから造りだした有機無機ハイブリッドシリカの諸特性に対する熱処理の効果

Effects of heat treatment on various properties of organic-inorganic hybrid silica derived from phenyltriethoxysilane

著者 (3件)： KURUMADA Ken-ichi (Fukushima National Coll. of Technol., Iwaki 970-8034, JPN) ,  ASHRAF Kayesh Mohammad (Graduate School of Environment and Information Sciences, Yokohama National Univ., Yokohama 240-8501, JPN) ,  MATSUMOTO Shinya (Graduate School of Environment and Information Sciences, Yokohama National Univ., Yokohama 240-8501, JPN)
資料名： Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)
巻： 144  号： 1-2  ページ： 132-138  発行年： 2014年03月14日 
JST資料番号： E0934A  ISSN： 0254-0584  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 三官能性エトキシシラン(フェニルトリエトキシシラン(PTES))から造りだした有機無機ハイブリッドシリカの微粒子は,外観上固化した後も,無視できない量のシラノール(Si-OH)部分を有する。Stoeber法で生成されたシリカに残存するシラノール部分では,250°C以上での熱処理により,再度重縮合が進行する。残存部分での重縮合反応の速度は,熱処理温度によってほとんど決まる。300°Cで192時間の加熱を行うと,重縮合は完了し,残存シラノール基は完全に除去される。残存シラノールの重縮合完了は,熱処理後の粉末のアセトン中不溶性により検知でき,これは目視で可能である。重縮合完了によるシラノール部分の除去は,約950cm^-1の水酸基に対応する赤外吸収が全くなくなることで示される。重縮合が完了するとシリカ質ポリマーネットワークが緻密化し,その結果,両親媒性有機溶媒(例えば,N,N-ジメチルホルムアミド)が有機無機ハイブリッドシリカのバルクマトリックスへ浸透しなくなることが観測される。熱重量測定の結果,残存シラノール基の縮重合反応が活発に進む温度領域(約300°C)でも,Siに直接結合したフェニル基は損傷されずに残っていることが示された。Copyright 2014 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *有機-無機ハイブリッド ,  *有機ケイ素化合物 ,  ゾル-ゲル法 ,  *シラノール ,  *重縮合 ,  赤外吸収スペクトル ,  ネットワーク構造 ,  緻密化 ,  両親媒性 ,  有機溶媒 ,  熱重量分析 ,  焼なまし ,  *凝固 ,  電子顕微鏡観察 ,  脂肪族カルボン酸 ,  カルボアミド ,  脂肪族ケトン ,  *二酸化ケイ素 ,  FTIRスペクトル ,  Stoeber法 ,  走査電子顕微鏡法
準シソーラス用語： *シリカ ,  走査電子顕微鏡観察

分類 (2件)： 有機けい素化合物  (CF08030C) ,  重縮合  (CG04050Z)

物質索引 (3件)： N,N-ジメチルホルムアミド ,  アセトン ,  フェニルトリエトキシシラン

タイトルに関連する用語 (4件)： フェニルトリエトキシシラン ,  有機無機ハイブリッド ,  シリカ ,  熱処理