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J-GLOBAL ID：201402265708423632   整理番号：14A1277591

ロールツーロールナノインプリントリソグラフィーの再調査

A review of roll-to-roll nanoimprint lithography

著者 (4件)： KOOY Nazrin (Universiti Sains Malaysia, Penang, MYS) ,  MOHAMED Khairudin (Universiti Sains Malaysia, Penang, MYS) ,  PIN Lee Tze (Universiti Sains Malaysia, Penang, MYS) ,  GUAN Ooi Su (Universiti Sains Malaysia, Penang, MYS)
資料名： Nanoscale Research Letters (Web)  (Nanoscale Research Letters (Web))
巻： 9  号： 1  ページ： 9:320 (WEB ONLY)  発行年： 2014年12月 
JST資料番号： U7001A  ISSN： 1931-7573  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 1995年の導入以来,ナノインプリントリソグラフィーは,マイクロ及びナノスケールパターンを複製する簡単で低コスト,及び,高スループットプロセスとして多くの研究の中で実証されてきた。その利点のために,ナノインプリントリソグラフィー法は,従来のナノリソグラフィープロセスに替わって,半導体及び柔軟性エレクトロニクス産業における最近の発展から生じる要求を満たす有望な代替手段として,長年にわたって急速に開発されてきた。その結果としてプロセス変動が生じる。ロールツーロール(R2R)ナノインプリントリソグラフィー(NIL)は,工業的規模での応用を満足させる高いスループットのために最も要求される技術である。ここでは,ナノインプリントリソグラフィー技術を表示し理解するだけでなく,最近の発展を明らかにするために,種々のタイプのナノインプリントリソグラフィープロセス,特にR2R NILと,一般的なインプリントモールドを製造することに適合した方法に関する一般的な文献再調査を提示する。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *生産方式 ,  *リソグラフィー ,  パターン形成 ,  *押付成形 ,  調査 ,  半導体プロセス ,  スループット ,  ロール・ツー・ロール方式
準シソーラス用語： ロール・ツー・ロール ,  再調査

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (1件)： 調査