小さいイオン性ケイ素酸化物クラスタ[SiO<sub>n</sub><sup>+</sup>(n=3,4)]の構造,安定性,および消散  密度汎関数法およびトポロジー探索からの考察

SEN Kaushik; GHOSH Deepanwita; PAKHIRA Srimanta; BANU Tahamida; DAS Abhijit K.

文献

J-GLOBAL ID：201402266912849157 整理番号：14A0058919

小さいイオン性ケイ素酸化物クラスタ[SiO_n⁺(n=3,4)]の構造,安定性,および消散密度汎関数法およびトポロジー探索からの考察

Structure, stability, and dissociation of small ionic silicon oxide clusters [SiO_n⁺(n = 3, 4)]: Insight from density functional and topological exploration

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資料名：
巻： 139 号： 23 ページ： 234303-234303-20 発行年： 2013年12月21日
JST資料番号： C0275A ISSN： 0021-9606 CODEN： JCPSA6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

小さい酸化ケイ素クラスタイオンSiO_n⁺(n=3,4)の二重項および四重項エネルギー面上の構造,エネルギー,異性化,分解経路を密度汎関数理論により検討した。これらのクラスタイオンの新しい構造異性体を系統的研究により見出した。二重項スピン面上のクラスタイオン異性体のエネルギー序列は中性クラスタと同じ一般トレンドに従い,四重項面とは異なった。本計算結果は両スピン面上のクラスタイオンのエネルギー的に最も有利な分解経路を示した。反応機構の理解のために分子中の原子式を用いる結合発展理論をあわせて使用した。四重項面上のいくつかの異性体の構造変形の理由について可能性を考察した。本結果はSiO_n⁺クラスタイオンの両エネルギー面上における分解機構および相対安定性の重要な洞察を与えると予期した。(翻訳著者抄録)

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原子・分子のクラスタ , 分子の幾何学的構造一般 , 物理化学一般その他

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小さいイオン性ケイ素酸化物クラスタ[SiOn+(n=3,4)]の構造,安定性,および消散 密度汎関数法およびトポロジー探索からの考察

小さいイオン性ケイ素酸化物クラスタ[SiO_n⁺(n=3,4)]の構造,安定性,および消散密度汎関数法およびトポロジー探索からの考察